光子学报
光子學報
광자학보
ACTA PHOTONICA SINICA
2002年
10期
1228-1232
,共5页
叶辉%Melanie M.T.Ho%Mak C.L
葉輝%Melanie M.T.Ho%Mak C.L
협휘%Melanie M.T.Ho%Mak C.L
铁电薄膜%铌酸锶钡%微结构%薄膜厚度
鐵電薄膜%鈮痠鍶鋇%微結構%薄膜厚度
철전박막%니산송패%미결구%박막후도
采用溶胶-凝胶法在Si(001)基片上制备铁电铌酸锶钡薄膜,使用X射线衍射、摇摆曲线、扫描电子显微镜、喇曼散射光谱等测试手段研究薄膜的微结构与薄膜厚度之间的关系,制备的薄膜厚度可达到5μm.实验发现,随着薄膜厚度的增加,SBN60和SBN75薄膜在(001)方向的优先取向性越来越好.随着膜层的增加,处于底层的膜层能够起到缓冲层的作用,以逐渐改善薄膜与基片之间的晶格失配,从而使得晶体的结晶取向性越来越好.
採用溶膠-凝膠法在Si(001)基片上製備鐵電鈮痠鍶鋇薄膜,使用X射線衍射、搖襬麯線、掃描電子顯微鏡、喇曼散射光譜等測試手段研究薄膜的微結構與薄膜厚度之間的關繫,製備的薄膜厚度可達到5μm.實驗髮現,隨著薄膜厚度的增加,SBN60和SBN75薄膜在(001)方嚮的優先取嚮性越來越好.隨著膜層的增加,處于底層的膜層能夠起到緩遲層的作用,以逐漸改善薄膜與基片之間的晶格失配,從而使得晶體的結晶取嚮性越來越好.
채용용효-응효법재Si(001)기편상제비철전니산송패박막,사용X사선연사、요파곡선、소묘전자현미경、나만산사광보등측시수단연구박막적미결구여박막후도지간적관계,제비적박막후도가체도5μm.실험발현,수착박막후도적증가,SBN60화SBN75박막재(001)방향적우선취향성월래월호.수착막층적증가,처우저층적막층능구기도완충층적작용,이축점개선박막여기편지간적정격실배,종이사득정체적결정취향성월래월호.
