外延生长Ge1-xSnx合金的研究进展
외연생장Ge1-xSnx합금적연구진전
Progress in the Epitaxy Growth of Ge1-xSnx Alloy
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    MATERIALS REVIEW
    2010年 21期 90-93,117 ,共5页

    苏少坚%汪巍%胡炜玄%张广泽%薛春来%左玉华%成步文%王启明

    소소견%왕외%호위현%장엄택%설춘래%좌옥화%성보문%왕계명

    Ge1-xSnx合金%外延%分凝 Ge1-xSnx閤金%外延%分凝
    Ge1-xSnx합금%외연%분응
    Ge1-xSnx是一种新型的Ⅳ族材料,具有广阔的应用前景,但是其生长存在许多困难,尤其是Sn易于分凝.采用离子轰击和快速变温等方法可以有效地抑制Sn的分凝,但是所生长的材料的热稳定性都比较差.采用化学气相沉积法获得了较高质量的Ge1-xSnx合金,但是所用的Sn气体源难以获得.综述了Ge1-xSnx合金外延生长的研究进展.
    Ge1-xSnx시일충신형적Ⅳ족재료,구유엄활적응용전경,단시기생장존재허다곤난,우기시Sn역우분응.채용리자굉격화쾌속변온등방법가이유효지억제Sn적분응,단시소생장적재료적열은정성도비교차.채용화학기상침적법획득료교고질량적Ge1-xSnx합금,단시소용적Sn기체원난이획득.종술료Ge1-xSnx합금외연생장적연구진전.
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