材料导报
材料導報
재료도보
MATERIALS REVIEW
2008年
z3期
384-386
,共3页
SiNx薄膜%磁控溅射%镁合金%腐蚀
SiNx薄膜%磁控濺射%鎂閤金%腐蝕
SiNx박막%자공천사%미합금%부식
采用磁控溅射法在AZ31镁合金表面沉积了SiNx薄膜.用场发射扫描电镜、X射线衍射、X光电子能谱等研究分析了薄膜的晶体结构、表面形貌和化学成分.实验结果表明,所制备的SiNx薄膜为非晶态的富N膜;SiNx薄膜可显著降低AZ31在3.5%的NaCl溶液中的腐蚀电流密度,膜厚为1.5靘时,在阳极极化区出现钝化现象.
採用磁控濺射法在AZ31鎂閤金錶麵沉積瞭SiNx薄膜.用場髮射掃描電鏡、X射線衍射、X光電子能譜等研究分析瞭薄膜的晶體結構、錶麵形貌和化學成分.實驗結果錶明,所製備的SiNx薄膜為非晶態的富N膜;SiNx薄膜可顯著降低AZ31在3.5%的NaCl溶液中的腐蝕電流密度,膜厚為1.5靘時,在暘極極化區齣現鈍化現象.
채용자공천사법재AZ31미합금표면침적료SiNx박막.용장발사소묘전경、X사선연사、X광전자능보등연구분석료박막적정체결구、표면형모화화학성분.실험결과표명,소제비적SiNx박막위비정태적부N막;SiNx박막가현저강저AZ31재3.5%적NaCl용액중적부식전류밀도,막후위1.5정시,재양겁겁화구출현둔화현상.