电子束光刻制备5 000 line/mm光栅掩模关键技术研究
전자속광각제비5 000 line/mm광책엄모관건기술연구
Key Technology for Fabrication of 5 000 line/mm Gratings Mask by Using E-heron Lithography
  • 万方数据
    微细加工技术 미세가공기술
    MICROFABRICATION TECHNOLOGY
    2008年 4期 4-5,13 ,共3页

    朱效立%谢常青%赵珉%陈宝钦%叶甜春%牛洁斌%张庆钊%刘明

    주효립%사상청%조민%진보흠%협첨춘%우길빈%장경쇠%류명

    电子束光刻%X射线透射光栅%邻近效应校正%X射线光刻 電子束光刻%X射線透射光柵%鄰近效應校正%X射線光刻
    전자속광각%X사선투사광책%린근효응교정%X사선광각
    为了制备高线密度X射线透射光栅掩模,分析了电子束光刻中场拼接对高线密度光栅图形的影响;利用几何校正技术和低灵敏度的950 k的PMMA电子束抗蚀剂,克服了电子束的邻近效应对厚胶图形曝光的影响.采用电子束光刻和微电镀的方法制备了5 000line/mm x射线透射光栅的掩模,并将栅线宽度精确控制在100 nm～110 nm,为X射线光刻复制高线密度X射线透射光栅创造了有利条件.
    위료제비고선밀도X사선투사광책엄모,분석료전자속광각중장병접대고선밀도광책도형적영향;이용궤하교정기술화저령민도적950 k적PMMA전자속항식제,극복료전자속적린근효응대후효도형폭광적영향.채용전자속광각화미전도적방법제비료5 000line/mm x사선투사광책적엄모,병장책선관도정학공제재100 nm～110 nm,위X사선광각복제고선밀도X사선투사광책창조료유리조건.
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