中国病理生理杂志
中國病理生理雜誌
중국병리생리잡지
CHINESE JOURNAL OF PATHOPHYSIOLOGY
2000年
5期
440-442
,共3页
温度%钾通道%下丘脑%神经元
溫度%鉀通道%下丘腦%神經元
온도%갑통도%하구뇌%신경원
目的:观察膜环境高温对下丘脑神经元延迟整流性K+通道(IK)电压依赖性的影响.方法:采用细胞贴附式的膜片钳技术.结果:高温可影响通道的电压依赖性,使电压依赖曲线发生正向移位,过高温度则使电压依赖性减弱甚或丧失.结论:IK电压依赖性的变化可能参与机体的发热和中暑发病过程.
目的:觀察膜環境高溫對下丘腦神經元延遲整流性K+通道(IK)電壓依賴性的影響.方法:採用細胞貼附式的膜片鉗技術.結果:高溫可影響通道的電壓依賴性,使電壓依賴麯線髮生正嚮移位,過高溫度則使電壓依賴性減弱甚或喪失.結論:IK電壓依賴性的變化可能參與機體的髮熱和中暑髮病過程.
목적:관찰막배경고온대하구뇌신경원연지정류성K+통도(IK)전압의뢰성적영향.방법:채용세포첩부식적막편겸기술.결과:고온가영향통도적전압의뢰성,사전압의뢰곡선발생정향이위,과고온도칙사전압의뢰성감약심혹상실.결론:IK전압의뢰성적변화가능삼여궤체적발열화중서발병과정.
