用于大面积周期性图形制造的激光干涉光刻
용우대면적주기성도형제조적격광간섭광각
Laser Interference Photolithography for Fabricating Periodic Patterns in Large Area
  • 万方数据
    光电工程 광전공정
    OPTO-ELECTRONIC ENGINEERING
    2001年 6期 20-23 ,共4页

    张锦%冯伯儒%郭永康%蒋世磊%宗德蓉%杜惊雷%曾阳素%高福华

    장금%풍백유%곽영강%장세뢰%종덕용%두량뢰%증양소%고복화

    干涉光刻%激光干涉%计算机模拟 榦涉光刻%激光榦涉%計算機模擬
    간섭광각%격광간섭%계산궤모의
    用两束或多束相干激光束以不同的组合形式对光致抗蚀剂曝光,可在大面积范围内产生精细的二维周期性图形,这个方法特别适合于产生光电子器件和微电子器件的周期性结构.介绍激光干涉光刻的基本原理,对几种光束组合干涉方法给出了理论推导结果,并进行了计算机模拟.初步的实验结果表明,用激光干涉光刻技术产生大面积的亚微米级周期性孔、柱、锥图形是可行的.该方法不需要掩模、昂贵的光刻成像透镜、新的短波长光源和新型的抗蚀剂,提供了得到高分辨、无限焦深、大面积光刻的可能性.
    용량속혹다속상간격광속이불동적조합형식대광치항식제폭광,가재대면적범위내산생정세적이유주기성도형,저개방법특별괄합우산생광전자기건화미전자기건적주기성결구.개소격광간섭광각적기본원리,대궤충광속조합간섭방법급출료이론추도결과,병진행료계산궤모의.초보적실험결과표명,용격광간섭광각기술산생대면적적아미미급주기성공、주、추도형시가행적.해방법불수요엄모、앙귀적광각성상투경、신적단파장광원화신형적항식제,제공료득도고분변、무한초심、대면적광각적가능성.
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