分析化学
分析化學
분석화학
CHINESE JOURNAL OF ANALYTICAL CHEMISTRY
2004年
3期
345-347
,共3页
赵亚娟%郎惠云%张秀军%江元汝
趙亞娟%郎惠雲%張秀軍%江元汝
조아연%랑혜운%장수군%강원여
尼莫地平%流动注射%化学发光
尼莫地平%流動註射%化學髮光
니막지평%류동주사%화학발광
利用尼莫地平对Ce(Ⅳ)-Na2SO3化学发光体系的抑制作用,建立了流动注射-化学发光法测定尼莫地平的新方法.化学发光强度与尼莫地平浓度在0.5～90 mg/L范围内呈线性关系,线性范围为0.5～10 mg/L时,r=0.9990;线性范围为10～90 mg/L 时,r=0.9968.回收率在98.3%～103.2%范围内;检出限为0.085 mg/L.
利用尼莫地平對Ce(Ⅳ)-Na2SO3化學髮光體繫的抑製作用,建立瞭流動註射-化學髮光法測定尼莫地平的新方法.化學髮光彊度與尼莫地平濃度在0.5～90 mg/L範圍內呈線性關繫,線性範圍為0.5～10 mg/L時,r=0.9990;線性範圍為10～90 mg/L 時,r=0.9968.迴收率在98.3%～103.2%範圍內;檢齣限為0.085 mg/L.
이용니막지평대Ce(Ⅳ)-Na2SO3화학발광체계적억제작용,건립료류동주사-화학발광법측정니막지평적신방법.화학발광강도여니막지평농도재0.5～90 mg/L범위내정선성관계,선성범위위0.5～10 mg/L시,r=0.9990;선성범위위10～90 mg/L 시,r=0.9968.회수솔재98.3%～103.2%범위내;검출한위0.085 mg/L.
