低温物理学报
低溫物理學報
저온물이학보
CHINESE JOURNAL OF LOW TEMPERATURE PHYSICS
2004年
1期
56-60
,共5页
陈莺飞%李洁%朱小红%王萍%郑东宁
陳鶯飛%李潔%硃小紅%王萍%鄭東寧
진앵비%리길%주소홍%왕평%정동저
反射高能电子衍射%外延生长%高温超导体
反射高能電子衍射%外延生長%高溫超導體
반사고능전자연사%외연생장%고온초도체
我们自行研制了具有三级差分气路可以在高气压下工作的RHEED系统(High-pressure RHEED),并利用本系统实时监测了(001)SrTiO3基片上SrTiO3:Nb、Ba0.5Sr0.5TiO3、YBa2Cu3O7单层薄膜,及Ba0.5Sr0.5TiO3/SrTiO3:Nb双层膜的生长过程.研究结果表明当镀膜室氧压高达21Pa时该系统仍然可以正常工作,并且能够获取较清晰的衍射图样.通过分析衍射图样我们发现,所有这些薄膜都是外延生长且晶体质量良好,但薄膜生长模式及表面平整度受沉积条件影响较大.在真空下薄膜基本上以层状模式生长,具备纳米级光滑的表面,且其表面平整度并不因膜厚的改变而变化;而在10Pa量级氧压下薄膜更倾向于以岛状模式生长,膜表面平整度较差,并且随膜厚的增加粗糙度上升.此外对多层薄膜而言,底层薄膜的表面和结构直接影响到顶层薄膜的质量和品质.
我們自行研製瞭具有三級差分氣路可以在高氣壓下工作的RHEED繫統(High-pressure RHEED),併利用本繫統實時鑑測瞭(001)SrTiO3基片上SrTiO3:Nb、Ba0.5Sr0.5TiO3、YBa2Cu3O7單層薄膜,及Ba0.5Sr0.5TiO3/SrTiO3:Nb雙層膜的生長過程.研究結果錶明噹鍍膜室氧壓高達21Pa時該繫統仍然可以正常工作,併且能夠穫取較清晰的衍射圖樣.通過分析衍射圖樣我們髮現,所有這些薄膜都是外延生長且晶體質量良好,但薄膜生長模式及錶麵平整度受沉積條件影響較大.在真空下薄膜基本上以層狀模式生長,具備納米級光滑的錶麵,且其錶麵平整度併不因膜厚的改變而變化;而在10Pa量級氧壓下薄膜更傾嚮于以島狀模式生長,膜錶麵平整度較差,併且隨膜厚的增加粗糙度上升.此外對多層薄膜而言,底層薄膜的錶麵和結構直接影響到頂層薄膜的質量和品質.
아문자행연제료구유삼급차분기로가이재고기압하공작적RHEED계통(High-pressure RHEED),병이용본계통실시감측료(001)SrTiO3기편상SrTiO3:Nb、Ba0.5Sr0.5TiO3、YBa2Cu3O7단층박막,급Ba0.5Sr0.5TiO3/SrTiO3:Nb쌍층막적생장과정.연구결과표명당도막실양압고체21Pa시해계통잉연가이정상공작,병차능구획취교청석적연사도양.통과분석연사도양아문발현,소유저사박막도시외연생장차정체질량량호,단박막생장모식급표면평정도수침적조건영향교대.재진공하박막기본상이층상모식생장,구비납미급광활적표면,차기표면평정도병불인막후적개변이변화;이재10Pa량급양압하박막경경향우이도상모식생장,막표면평정도교차,병차수막후적증가조조도상승.차외대다층박막이언,저층박막적표면화결구직접영향도정층박막적질량화품질.
