应用激光
應用激光
응용격광
APPLIED LASER
2005年
5期
327-328
,共2页
张锦%冯伯儒%郭永康%刘娟
張錦%馮伯儒%郭永康%劉娟
장금%풍백유%곽영강%류연
激光干涉光刻%无掩模%光刻技术
激光榦涉光刻%無掩模%光刻技術
격광간섭광각%무엄모%광각기술
将涂有光致抗蚀剂的硅片或其它光敏材料置于由多束相干光以某种方式组合构成的干涉场中,可以在大视场和深曝光场内形成孔、点或锥阵周期图形,光学系统简单廉价,不需掩模和高精度大NA光刻物镜,采用现行抗蚀剂工艺.文中介绍的双光束双曝光法得到的阵列图形周期d的极限为dmin=λ/2,四光束单曝光的周期略大,为前者的 2 倍,三光束单曝光得到2/ 3 d周期的图形,并且图形不受基片在曝光场中位置的影响,适合大面积尺寸器件中周期图形的制作,而三光束双曝光和五光束曝光的结果是周期为2d的阵列图形,并且沿光轴方向光场随空间位置也作周期变化,适合在大纵深尺寸范围内调制物体结构.
將塗有光緻抗蝕劑的硅片或其它光敏材料置于由多束相榦光以某種方式組閤構成的榦涉場中,可以在大視場和深曝光場內形成孔、點或錐陣週期圖形,光學繫統簡單廉價,不需掩模和高精度大NA光刻物鏡,採用現行抗蝕劑工藝.文中介紹的雙光束雙曝光法得到的陣列圖形週期d的極限為dmin=λ/2,四光束單曝光的週期略大,為前者的 2 倍,三光束單曝光得到2/ 3 d週期的圖形,併且圖形不受基片在曝光場中位置的影響,適閤大麵積呎吋器件中週期圖形的製作,而三光束雙曝光和五光束曝光的結果是週期為2d的陣列圖形,併且沿光軸方嚮光場隨空間位置也作週期變化,適閤在大縱深呎吋範圍內調製物體結構.
장도유광치항식제적규편혹기타광민재료치우유다속상간광이모충방식조합구성적간섭장중,가이재대시장화심폭광장내형성공、점혹추진주기도형,광학계통간단렴개,불수엄모화고정도대NA광각물경,채용현행항식제공예.문중개소적쌍광속쌍폭광법득도적진렬도형주기d적겁한위dmin=λ/2,사광속단폭광적주기략대,위전자적 2 배,삼광속단폭광득도2/ 3 d주기적도형,병차도형불수기편재폭광장중위치적영향,괄합대면적척촌기건중주기도형적제작,이삼광속쌍폭광화오광속폭광적결과시주기위2d적진렬도형,병차연광축방향광장수공간위치야작주기변화,괄합재대종심척촌범위내조제물체결구.
