电镀与涂饰
電鍍與塗飾
전도여도식
ELECTROPLATING & FINISHING
2005年
9期
9-11
,共3页
牛振江%胡钟霆%陈萍%陈崇劣%孙雅峰%李则林
牛振江%鬍鐘霆%陳萍%陳崇劣%孫雅峰%李則林
우진강%호종정%진평%진숭렬%손아봉%리칙림
低温%化学镀镍%柠檬酸盐%沉积速度
低溫%化學鍍鎳%檸檬痠鹽%沉積速度
저온%화학도얼%저몽산염%침적속도
提出一种柠檬酸三铵体系的低温化学镀镍工艺.研究了该镀液的温度、pH及镀液组成对沉积速度的影响.得出适宜的工艺条件为:40 g/L硫酸镍、35 g/L次亚磷酸钠、30 g/L柠檬酸三铵,pH 9～9.5,θ为45 ℃.经扫描电子显微镜观察,镀层表面均匀平整;经X-射线衍射分析,镀层具有晶态结构.该工艺稳定,沉积速度可达4.5 mg/(cm2
提齣一種檸檬痠三銨體繫的低溫化學鍍鎳工藝.研究瞭該鍍液的溫度、pH及鍍液組成對沉積速度的影響.得齣適宜的工藝條件為:40 g/L硫痠鎳、35 g/L次亞燐痠鈉、30 g/L檸檬痠三銨,pH 9～9.5,θ為45 ℃.經掃描電子顯微鏡觀察,鍍層錶麵均勻平整;經X-射線衍射分析,鍍層具有晶態結構.該工藝穩定,沉積速度可達4.5 mg/(cm2
제출일충저몽산삼안체계적저온화학도얼공예.연구료해도액적온도、pH급도액조성대침적속도적영향.득출괄의적공예조건위:40 g/L류산얼、35 g/L차아린산납、30 g/L저몽산삼안,pH 9～9.5,θ위45 ℃.경소묘전자현미경관찰,도층표면균균평정;경X-사선연사분석,도층구유정태결구.해공예은정,침적속도가체4.5 mg/(cm2
