光学精密工程
光學精密工程
광학정밀공정
OPTICS AND PRECISION ENGINEERING
2008年
6期
1063-1068
,共6页
光存储%多阶%母盘刻录工艺%光刻模型
光存儲%多階%母盤刻錄工藝%光刻模型
광존저%다계%모반각록공예%광각모형
建立了光盘母盘刻录的光刻模型.该模型使用矢量衍射来计算聚焦光斑的光强分布,使用多层薄膜的光传导来描述光在光刻胶中的传播.给出了关键工艺参数,例如光刻胶厚度、显影液浓度和显影时间,实验研究了这些参数对典型坑点的深度和宽度的影响并进行了仿真.研究结果表明,光刻胶厚度的减小会引起宽度的增大和深度的减小.延长显影时间和增加显影液的效果相当,都会引起坑点宽度和深度的增加.实验和仿真结果吻合,两者偏差在±5 nm以内,证明了模型的正确性.分析结果对实际工作中多阶母盘的制备很有参考价值,同时,理论模型还可用于分析其他工艺参数对母盘刻录的影响,或用于分析其他格式光盘的母盘刻录工艺.
建立瞭光盤母盤刻錄的光刻模型.該模型使用矢量衍射來計算聚焦光斑的光彊分佈,使用多層薄膜的光傳導來描述光在光刻膠中的傳播.給齣瞭關鍵工藝參數,例如光刻膠厚度、顯影液濃度和顯影時間,實驗研究瞭這些參數對典型坑點的深度和寬度的影響併進行瞭倣真.研究結果錶明,光刻膠厚度的減小會引起寬度的增大和深度的減小.延長顯影時間和增加顯影液的效果相噹,都會引起坑點寬度和深度的增加.實驗和倣真結果吻閤,兩者偏差在±5 nm以內,證明瞭模型的正確性.分析結果對實際工作中多階母盤的製備很有參攷價值,同時,理論模型還可用于分析其他工藝參數對母盤刻錄的影響,或用于分析其他格式光盤的母盤刻錄工藝.
건립료광반모반각록적광각모형.해모형사용시량연사래계산취초광반적광강분포,사용다층박막적광전도래묘술광재광각효중적전파.급출료관건공예삼수,례여광각효후도、현영액농도화현영시간,실험연구료저사삼수대전형갱점적심도화관도적영향병진행료방진.연구결과표명,광각효후도적감소회인기관도적증대화심도적감소.연장현영시간화증가현영액적효과상당,도회인기갱점관도화심도적증가.실험화방진결과문합,량자편차재±5 nm이내,증명료모형적정학성.분석결과대실제공작중다계모반적제비흔유삼고개치,동시,이론모형환가용우분석기타공예삼수대모반각록적영향,혹용우분석기타격식광반적모반각록공예.
