真空科学与技术学报
真空科學與技術學報
진공과학여기술학보
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
2004年
4期
267-270
,共4页
梅芳华%邵楠%胡晓萍%李戈扬%顾明元
梅芳華%邵楠%鬍曉萍%李戈颺%顧明元
매방화%소남%호효평%리과양%고명원
Ti-Si-N纳米晶复合薄膜%反应溅射%微结构%力学性能
Ti-Si-N納米晶複閤薄膜%反應濺射%微結構%力學性能
Ti-Si-N납미정복합박막%반응천사%미결구%역학성능
采用Ar、N2和SiH4混合气体反应溅射制备了一系列不同Si含量的Ti-Si-N复合膜,用EDS、XRD、TEM和微力学探针研究了复合膜的微结构和力学性能.结果表明,通过控制混合气体中SiH4分压可以方便地获得不同Si含量的Ti-Si-N复合膜.当Si含量为(4～9)at%时,复合膜得到强化,最高硬度和弹性模量分别为34.2 Gpa和398 Gpa.进一步增加Si含量,复合膜的力学性能逐步降低.微结构研究发现,高硬度的Ti-Si-N复合膜呈现Si3N4界面相分隔TiN纳米晶的微结构特征,其中TiN纳米晶的直径约为20 nm,Si3N4界面相的厚度小于1nm.
採用Ar、N2和SiH4混閤氣體反應濺射製備瞭一繫列不同Si含量的Ti-Si-N複閤膜,用EDS、XRD、TEM和微力學探針研究瞭複閤膜的微結構和力學性能.結果錶明,通過控製混閤氣體中SiH4分壓可以方便地穫得不同Si含量的Ti-Si-N複閤膜.噹Si含量為(4～9)at%時,複閤膜得到彊化,最高硬度和彈性模量分彆為34.2 Gpa和398 Gpa.進一步增加Si含量,複閤膜的力學性能逐步降低.微結構研究髮現,高硬度的Ti-Si-N複閤膜呈現Si3N4界麵相分隔TiN納米晶的微結構特徵,其中TiN納米晶的直徑約為20 nm,Si3N4界麵相的厚度小于1nm.
채용Ar、N2화SiH4혼합기체반응천사제비료일계렬불동Si함량적Ti-Si-N복합막,용EDS、XRD、TEM화미역학탐침연구료복합막적미결구화역학성능.결과표명,통과공제혼합기체중SiH4분압가이방편지획득불동Si함량적Ti-Si-N복합막.당Si함량위(4～9)at%시,복합막득도강화,최고경도화탄성모량분별위34.2 Gpa화398 Gpa.진일보증가Si함량,복합막적역학성능축보강저.미결구연구발현,고경도적Ti-Si-N복합막정현Si3N4계면상분격TiN납미정적미결구특정,기중TiN납미정적직경약위20 nm,Si3N4계면상적후도소우1nm.
