Ti-Al-Zr靶材的多弧离子镀沉积过程的模拟研究
Ti-Al-Zr파재적다호리자도침적과정적모의연구
A study on simulation of deposition process in cathodic arcion plating for target Ti-Al-Zr
  • 万方数据
    机械设计与制造 궤계설계여제조
    MACHINERY DESIGN & MANUFACTURE
    2007年 5期 137-139 ,共3页

    赵时璐%张震

    조시로%장진

    多弧离子镀%镀膜过程%Ti-Al-Zr靶材%成分 多弧離子鍍%鍍膜過程%Ti-Al-Zr靶材%成分
    다호리자도%도막과정%Ti-Al-Zr파재%성분
    本文模拟了Ti-Al-Zr靶材的多弧离子镀的镀膜过程.通过对圆柱形镀膜室-偏压电场的模拟,讨论了在不同的偏压电场下粒子的运动特性、成分离析效应的影响因素、涂层成分均匀性的影响因素,模拟结果与实际的镀膜实验相符.
    본문모의료Ti-Al-Zr파재적다호리자도적도막과정.통과대원주형도막실-편압전장적모의,토론료재불동적편압전장하입자적운동특성、성분리석효응적영향인소、도층성분균균성적영향인소,모의결과여실제적도막실험상부.
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