直流电弧等离子喷射CVD中控制生长(111)晶面占优的金刚石膜
직류전호등리자분사CVD중공제생장(111)정면점우적금강석막
Controlling Fabrication of (111)Crystal Surface Dominating Diamond Film by DC ARC Plasma Jet CVD
  • 万方数据
    人工晶体学报 인공정체학보

    2006年 3期 478-480 ,共3页

    周祖源%陈广超%戴风伟%兰昊%宋建华%李彬%佟玉梅%李成明%黑立富%唐伟忠

    주조원%진엄초%대풍위%란호%송건화%리빈%동옥매%리성명%흑립부%당위충

    光发射谱%金刚石膜%直流电弧等离子喷射CVD%(111)占优晶面 光髮射譜%金剛石膜%直流電弧等離子噴射CVD%(111)佔優晶麵
    광발사보%금강석막%직류전호등리자분사CVD%(111)점우정면
    运用光发射谱(OES)技术对大功率直流电弧等离子喷射CVD金刚石膜的气相沉积环境进行了原位诊断,研究了气相环境中主要含碳基团的浓度及分布与沉积参数的关系,发现了C2基元比其他基元对沉积参数更加敏感.利用光发射谱对C2基元发射强度的监测,实时调控沉积各参数,在大功率直流电弧等离子喷射CVD中实现了(111)晶面占优的金刚石膜的可控生长,I(111)/I(220)XRD衍射峰强度的比值达48.
    운용광발사보(OES)기술대대공솔직류전호등리자분사CVD금강석막적기상침적배경진행료원위진단,연구료기상배경중주요함탄기단적농도급분포여침적삼수적관계,발현료C2기원비기타기원대침적삼수경가민감.이용광발사보대C2기원발사강도적감측,실시조공침적각삼수,재대공솔직류전호등리자분사CVD중실현료(111)정면점우적금강석막적가공생장,I(111)/I(220)XRD연사봉강도적비치체48.
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