微纳电子技术
微納電子技術
미납전자기술
MICRONANOELECTRONIC TECHNOLOGY
2012年
3期
197-207
,共11页
要彦清%李金洋%吴建杰%陈方%祁志美
要彥清%李金洋%吳建傑%陳方%祁誌美
요언청%리금양%오건걸%진방%기지미
集成光学%光学器件%铌酸锂%干法刻蚀%反应离子刻蚀
集成光學%光學器件%鈮痠鋰%榦法刻蝕%反應離子刻蝕
집성광학%광학기건%니산리%간법각식%반응리자각식
概述了近年来国内外对铌酸锂(LN)晶体干法刻蚀技术的研究进展.根据刻蚀原理和特点,现有的LN干法刻蚀技术可分为等离子体刻蚀、激光微加工技术和Ti扩散电化学刻蚀.对各刻蚀方法及其研究进展进行了总结,分析了不同干法刻蚀方法之间的区别和联系,并对各方法中存在的问题进行了探讨.其中等离子体刻蚀技术由于其良好的图形转移特性,得到了最广泛的应用；激光微加工技术在制备光子晶体结构和微光栅结构中具有独特的优势；Ti扩散电化学刻蚀LN为制备大尺寸的LN基结构指明了新的方向.
概述瞭近年來國內外對鈮痠鋰(LN)晶體榦法刻蝕技術的研究進展.根據刻蝕原理和特點,現有的LN榦法刻蝕技術可分為等離子體刻蝕、激光微加工技術和Ti擴散電化學刻蝕.對各刻蝕方法及其研究進展進行瞭總結,分析瞭不同榦法刻蝕方法之間的區彆和聯繫,併對各方法中存在的問題進行瞭探討.其中等離子體刻蝕技術由于其良好的圖形轉移特性,得到瞭最廣汎的應用；激光微加工技術在製備光子晶體結構和微光柵結構中具有獨特的優勢；Ti擴散電化學刻蝕LN為製備大呎吋的LN基結構指明瞭新的方嚮.
개술료근년래국내외대니산리(LN)정체간법각식기술적연구진전.근거각식원리화특점,현유적LN간법각식기술가분위등리자체각식、격광미가공기술화Ti확산전화학각식.대각각식방법급기연구진전진행료총결,분석료불동간법각식방법지간적구별화련계,병대각방법중존재적문제진행료탐토.기중등리자체각식기술유우기량호적도형전이특성,득도료최엄범적응용；격광미가공기술재제비광자정체결구화미광책결구중구유독특적우세；Ti확산전화학각식LN위제비대척촌적LN기결구지명료신적방향.
