微处理机
微處理機
미처리궤
MICROPROCESSORS
2012年
4期
25-27,36
,共4页
半导体%硅片%清洗%兆声波%设备
半導體%硅片%清洗%兆聲波%設備
반도체%규편%청세%조성파%설비
阐述了半导体硅片清洗的一些重要设备.主要包括湿法化学清洗、兆声波清洗以及机械刷洗设备等常用的设备及配置,同时也介绍了近几年逐渐获得应用的清洗设备方面的技术创新.
闡述瞭半導體硅片清洗的一些重要設備.主要包括濕法化學清洗、兆聲波清洗以及機械刷洗設備等常用的設備及配置,同時也介紹瞭近幾年逐漸穫得應用的清洗設備方麵的技術創新.
천술료반도체규편청세적일사중요설비.주요포괄습법화학청세、조성파청세이급궤계쇄세설비등상용적설비급배치,동시야개소료근궤년축점획득응용적청세설비방면적기술창신.
