立方织构 Cu-Ni基带及缓冲层的研究
립방직구 Cu-Ni기대급완충층적연구
Cu-Ni Textured Tapes and Buffer Layer for HTS Coated Conductor
  • 万方数据
    稀有金属 희유금속
    CHINESE JOURNAL OF RARE METALS
    2002年 3期 166-168,178 ,共4页

    史锴%杨坚%刘慧舟%胡广勇%舒勇华%王晓华%袁冠森

    사개%양견%류혜주%호엄용%서용화%왕효화%원관삼

    基带%立方织构%表面氧化外延%铜式织构%S织构 基帶%立方織構%錶麵氧化外延%銅式織構%S織構
    기대%립방직구%표면양화외연%동식직구%S직구
    系统研究了Cu-Ni 合金基带和纯Ni基带的织构形成及转变规律,重复地获得了稳定的再结晶{001}<100>立方织构.用表面氧化外延(SOE)法生成了 NiO(200)薄膜.轧制总加工率、轧制道次和轧制方向对轧制织构的形成起主要作用;再结晶温度、时间是立方织构形成的主要影响因素.在获得了强立方织构 Cu-Ni 合金基底上(其中Φ扫描曲线的半高宽(FWHM)≤10°),通过SOE方法得到了取向良好NiO(200)缓冲层.
    계통연구료Cu-Ni 합금기대화순Ni기대적직구형성급전변규률,중복지획득료은정적재결정{001}<100>립방직구.용표면양화외연(SOE)법생성료 NiO(200)박막.알제총가공솔、알제도차화알제방향대알제직구적형성기주요작용;재결정온도、시간시립방직구형성적주요영향인소.재획득료강립방직구 Cu-Ni 합금기저상(기중Φ소묘곡선적반고관(FWHM)≤10°),통과SOE방법득도료취향량호NiO(200)완충층.
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