科学技术与工程
科學技術與工程
과학기술여공정
SCIENCE TECHNOLOGY AND ENGINEERING
2007年
12期
2767-2771,封面
,共6页
硅纳米孔柱阵列(Si-NPA)%Ni/Si-NPA%浸渍沉积
硅納米孔柱陣列(Si-NPA)%Ni/Si-NPA%浸漬沉積
규납미공주진렬(Si-NPA)%Ni/Si-NPA%침지침적
以水热制备的具有规则表面形貌和结构的硅纳米孔柱阵列(Silicon Nanoporous Pillar Array,Si-NPA)为衬底,采用浸渍沉积技术并通过调控溶液中Ni2+的浓度,制备了表面具有不同图案化结构的镍/硅纳米孔柱阵列复合体系.分析表明,Ni2+浓度对Ni/Si-NPA表面形貌和结构有很大的影响:高的Ni2+浓度下制备的Ni/Si-NPA能够保持Si-NPA衬底的规则阵列结构特征;而低的Ni2+浓度下制备的Ni/Si-NPA其衬底规则的阵列结构几乎完全被破坏.优化了制备具有图案化结构特征的Ni/Si-NPA的实验条件,并对Ni/Si-NPA的形成机理进行了探讨.
以水熱製備的具有規則錶麵形貌和結構的硅納米孔柱陣列(Silicon Nanoporous Pillar Array,Si-NPA)為襯底,採用浸漬沉積技術併通過調控溶液中Ni2+的濃度,製備瞭錶麵具有不同圖案化結構的鎳/硅納米孔柱陣列複閤體繫.分析錶明,Ni2+濃度對Ni/Si-NPA錶麵形貌和結構有很大的影響:高的Ni2+濃度下製備的Ni/Si-NPA能夠保持Si-NPA襯底的規則陣列結構特徵;而低的Ni2+濃度下製備的Ni/Si-NPA其襯底規則的陣列結構幾乎完全被破壞.優化瞭製備具有圖案化結構特徵的Ni/Si-NPA的實驗條件,併對Ni/Si-NPA的形成機理進行瞭探討.
이수열제비적구유규칙표면형모화결구적규납미공주진렬(Silicon Nanoporous Pillar Array,Si-NPA)위츤저,채용침지침적기술병통과조공용액중Ni2+적농도,제비료표면구유불동도안화결구적얼/규납미공주진렬복합체계.분석표명,Ni2+농도대Ni/Si-NPA표면형모화결구유흔대적영향:고적Ni2+농도하제비적Ni/Si-NPA능구보지Si-NPA츤저적규칙진렬결구특정;이저적Ni2+농도하제비적Ni/Si-NPA기츤저규칙적진렬결구궤호완전피파배.우화료제비구유도안화결구특정적Ni/Si-NPA적실험조건,병대Ni/Si-NPA적형성궤리진행료탐토.
