液晶与显示
液晶與顯示
액정여현시
CHINESE JOURNAL OF LIQUID CRYSTALS AND DISPLAYS
2012年
2期
204-207
,共4页
王亮%王文青%李鑫%吴成龙%郑云友%宋泳珍%李伟%李正勳
王亮%王文青%李鑫%吳成龍%鄭雲友%宋泳珍%李偉%李正勳
왕량%왕문청%리흠%오성룡%정운우%송영진%리위%리정훈
干法刻蚀%增强型阴极等离子耦合%PR灰化速率
榦法刻蝕%增彊型陰極等離子耦閤%PR灰化速率
간법각식%증강형음겁등리자우합%PR회화속솔
通过改变压力、O2和SF6的流量研究干法刻蚀增强型阴极等离子耦合模式下对PR胶灰化速率、均匀性、H/V比值的影响.研究结果表明:在一定范围内随着压力的不断增大,PR的刻蚀速率逐渐增大,同时刻蚀的均匀性也逐渐变好,H/V逐渐变大；增加单组分SF6流量时刻蚀率和H/V比值均先增大后减小,而刻蚀均匀度数值有先减小后增大的趋势；增加单组分O2流量时PR灰化速率变化不明显,但刻蚀的均匀性逐渐变好,H/V比值先增大后减小；当O2和SF6的流量比例不变时,同时增加O2和SF6流量,PR灰化速率会先增加后减小,均匀性数值和H/V比值先减小后增大.
通過改變壓力、O2和SF6的流量研究榦法刻蝕增彊型陰極等離子耦閤模式下對PR膠灰化速率、均勻性、H/V比值的影響.研究結果錶明:在一定範圍內隨著壓力的不斷增大,PR的刻蝕速率逐漸增大,同時刻蝕的均勻性也逐漸變好,H/V逐漸變大；增加單組分SF6流量時刻蝕率和H/V比值均先增大後減小,而刻蝕均勻度數值有先減小後增大的趨勢；增加單組分O2流量時PR灰化速率變化不明顯,但刻蝕的均勻性逐漸變好,H/V比值先增大後減小；噹O2和SF6的流量比例不變時,同時增加O2和SF6流量,PR灰化速率會先增加後減小,均勻性數值和H/V比值先減小後增大.
통과개변압력、O2화SF6적류량연구간법각식증강형음겁등리자우합모식하대PR효회화속솔、균균성、H/V비치적영향.연구결과표명:재일정범위내수착압력적불단증대,PR적각식속솔축점증대,동시각식적균균성야축점변호,H/V축점변대；증가단조분SF6류량시각식솔화H/V비치균선증대후감소,이각식균균도수치유선감소후증대적추세；증가단조분O2류량시PR회화속솔변화불명현,단각식적균균성축점변호,H/V비치선증대후감소；당O2화SF6적류량비례불변시,동시증가O2화SF6류량,PR회화속솔회선증가후감소,균균성수치화H/V비치선감소후증대.
