固体电子学研究与进展
固體電子學研究與進展
고체전자학연구여진전
RESEARCH & PROGRESS OF SOLID STATE ELECTRONICS
2009年
2期
306-309
,共4页
贾仁需%张义门%张玉明%王悦湖%栾苏珍
賈仁需%張義門%張玉明%王悅湖%欒囌珍
가인수%장의문%장옥명%왕열호%란소진
4H碳化硅同质外延%缓冲层%扫描电子显微镜%X射线双晶衍射谱%光致发光谱
4H碳化硅同質外延%緩遲層%掃描電子顯微鏡%X射線雙晶衍射譜%光緻髮光譜
4H탄화규동질외연%완충층%소묘전자현미경%X사선쌍정연사보%광치발광보
利用扫描电子显微镜(SEM),X射线双晶衍射谱(XRD)和光致发光谱(PL)对在4H-SiC单晶衬底上采用CVD同质外延的4H-SiC单晶薄膜的特性进行研究,发现外延层有很好的晶格结构和完整性.由于Al原位掺杂引起的晶格失配和衬底和外延的晶向偏离,在样品的衬底和外延的界面出现了约1 μm的缓冲层,使得XRD摇摆曲线距主峰左侧约41arcs出现了强衍射峰.缓冲层中存在大量的堆垛缺陷和位错,引入缺陷能级,使室温PL测试为"绿带"发光.通过PL全片扫描发现缓冲层在整个样品中普遍存在且分布均匀.
利用掃描電子顯微鏡(SEM),X射線雙晶衍射譜(XRD)和光緻髮光譜(PL)對在4H-SiC單晶襯底上採用CVD同質外延的4H-SiC單晶薄膜的特性進行研究,髮現外延層有很好的晶格結構和完整性.由于Al原位摻雜引起的晶格失配和襯底和外延的晶嚮偏離,在樣品的襯底和外延的界麵齣現瞭約1 μm的緩遲層,使得XRD搖襬麯線距主峰左側約41arcs齣現瞭彊衍射峰.緩遲層中存在大量的堆垛缺陷和位錯,引入缺陷能級,使室溫PL測試為"綠帶"髮光.通過PL全片掃描髮現緩遲層在整箇樣品中普遍存在且分佈均勻.
이용소묘전자현미경(SEM),X사선쌍정연사보(XRD)화광치발광보(PL)대재4H-SiC단정츤저상채용CVD동질외연적4H-SiC단정박막적특성진행연구,발현외연층유흔호적정격결구화완정성.유우Al원위참잡인기적정격실배화츤저화외연적정향편리,재양품적츤저화외연적계면출현료약1 μm적완충층,사득XRD요파곡선거주봉좌측약41arcs출현료강연사봉.완충층중존재대량적퇴타결함화위착,인입결함능급,사실온PL측시위"록대"발광.통과PL전편소묘발현완충층재정개양품중보편존재차분포균균.