CAJ | 학술논문

介绍了一种适合高分辨力接近/接触式光刻的新型纳米级光刻对准方法.简要阐述了该对准方法的基本原理,探讨了应用该对准方法的光学结构设计,提出了照明光路与干涉条纹捕获光路的垂直设计,采用单色非曝光光源远心照明方式并外加补偿光路的结构设计.在软件处理方面,提出采用九点四线曲面拟合面阵CCD细分方法及最小二乘曲线拟合定位方法,实现光刻对准精度的进一步提高.该光刻对准方法能够克服现有对准技术的诸多缺陷,具有纳米级对准精度,能够满足纳米光刻的对准需求.
개소료일충괄합고분변력접근/접촉식광각적신형납미급광각대준방법.간요천술료해대준방법적기본원리,탐토료응용해대준방법적광학결구설계,제출료조명광로여간섭조문포획광로적수직설계,채용단색비폭광광원원심조명방식병외가보상광로적결구설계.재연건처리방면,제출채용구점사선곡면의합면진CCD세분방법급최소이승곡선의합정위방법,실현광각대준정도적진일보제고.해광각대준방법능구극복현유대준기술적제다결함,구유납미급대준정도,능구만족납미광각적대준수구.