红外与激光工程
紅外與激光工程
홍외여격광공정
INFRARED AND LASER ENGINEERING
2012年
1期
101-106
,共6页
温度控制%稳频%全内腔微片激光器%PID
溫度控製%穩頻%全內腔微片激光器%PID
온도공제%은빈%전내강미편격광기%PID
温度控制是实现全内腔半导体泵浦Nd:YAG微片激光器稳频的行之有效的手段之一.研究了如何为Nd:YAG微片激光器的稳频提供有效的温控方式.估算出所需要的控温精度——波动范围在±0.09℃以内.依据这一设计目标,介绍了各重要环节的设计过程.通过频域分析法,对温控系统的特性进行分析与调整.通过理论计算将系统改造成了二阶系统最优模型并用实验验证了理论分析.研制了一套用于全内腔半导体泵浦Nd:YAG微片激光器的温控系统,并在两种条件下对系统进行了测试.在室温26℃左右的条件下,可以给微片提供18～38℃之间的任意温度环境,温度波动范围在±0.05℃以内；当环境温度在18 ～27℃之间任意改变时,系统能将晶片温度稳定在24℃,温度波动范围在±0.05℃以内.
溫度控製是實現全內腔半導體泵浦Nd:YAG微片激光器穩頻的行之有效的手段之一.研究瞭如何為Nd:YAG微片激光器的穩頻提供有效的溫控方式.估算齣所需要的控溫精度——波動範圍在±0.09℃以內.依據這一設計目標,介紹瞭各重要環節的設計過程.通過頻域分析法,對溫控繫統的特性進行分析與調整.通過理論計算將繫統改造成瞭二階繫統最優模型併用實驗驗證瞭理論分析.研製瞭一套用于全內腔半導體泵浦Nd:YAG微片激光器的溫控繫統,併在兩種條件下對繫統進行瞭測試.在室溫26℃左右的條件下,可以給微片提供18～38℃之間的任意溫度環境,溫度波動範圍在±0.05℃以內；噹環境溫度在18 ～27℃之間任意改變時,繫統能將晶片溫度穩定在24℃,溫度波動範圍在±0.05℃以內.
온도공제시실현전내강반도체빙포Nd:YAG미편격광기은빈적행지유효적수단지일.연구료여하위Nd:YAG미편격광기적은빈제공유효적온공방식.고산출소수요적공온정도——파동범위재±0.09℃이내.의거저일설계목표,개소료각중요배절적설계과정.통과빈역분석법,대온공계통적특성진행분석여조정.통과이론계산장계통개조성료이계계통최우모형병용실험험증료이론분석.연제료일투용우전내강반도체빙포Nd:YAG미편격광기적온공계통,병재량충조건하대계통진행료측시.재실온26℃좌우적조건하,가이급미편제공18～38℃지간적임의온도배경,온도파동범위재±0.05℃이내；당배경온도재18 ～27℃지간임의개변시,계통능장정편온도은정재24℃,온도파동범위재±0.05℃이내.
