N-X共掺p型ZnO薄膜的研究进展
N-X공참p형ZnO박막적연구진전
Latest Progress of N-X Codoped p-Type ZnO Thin Films
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    MATERIALS REVIEW
    2011年 23期 49-54 ,共6页

    李万俊%孔春阳%秦国平%阮海波%杨天勇%梁薇薇%孟祥丹%赵永红

    리만준%공춘양%진국평%원해파%양천용%량미미%맹상단%조영홍

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    获得高质量稳定的p型ZnO薄膜是实现ZnO基光电器件化的关键.目前,国际上公认V族元素中的N替代O位(No)是实现p型ZnO较理想的掺杂途径.但p-ZnO:N薄膜的导电性能会随着时间、光照、温度条件发生变化,稳定性不足.大量的理论和实验研究表明N基二元共掺( N-X)可以提高N在ZnO薄膜中的固溶度,浅化N的受主能级,且在很大程度上能够改善p型ZnO的导电性能,有利于获得稳定的p型ZnO薄膜.为此,从N基施主受主共掺、双受主共掺以及其它共掺方面综述了N-X共掺p型ZnO薄膜的研究现状.
    획득고질량은정적p형ZnO박막시실현ZnO기광전기건화적관건.목전,국제상공인V족원소중적N체대O위(No)시실현p형ZnO교이상적참잡도경.단p-ZnO:N박막적도전성능회수착시간、광조、온도조건발생변화,은정성불족.대량적이론화실험연구표명N기이원공참( N-X)가이제고N재ZnO박막중적고용도,천화N적수주능급,차재흔대정도상능구개선p형ZnO적도전성능,유리우획득은정적p형ZnO박막.위차,종N기시주수주공참、쌍수주공참이급기타공참방면종술료N-X공참p형ZnO박막적연구현상.
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