红外与激光工程
紅外與激光工程
홍외여격광공정
INFRARED AND LASER ENGINEERING
2011年
7期
1225-1229
,共5页
吴传贵%罗一生%彭强祥%罗文博%张万里
吳傳貴%囉一生%彭彊祥%囉文博%張萬裏
오전귀%라일생%팽강상%라문박%장만리
丝网印刷%厚膜%PZT%热释电
絲網印刷%厚膜%PZT%熱釋電
사망인쇄%후막%PZT%열석전
采用丝网印刷法在氧化铝基片上制备了大面积多孔PbZr0.3Ti0.7O3热释电厚膜与单元红外探测器.通过掺入Li2CO3与Bi2O3作为助烧剂,实现了厚膜在850℃下的低温烧结.通过保持合适的孔隙率,将厚膜的相对介电常数降低至原值的1/5以提高材料优值与探测率.厚膜在1 kHz、25℃下的相对介电常数与损耗角正切分别为94与0.017.测试了厚膜相对介电常数与损耗随温度的变化规律,测得其居里温度为425℃.通过动态法测试得到厚膜的热释电系数为0.9×10-8 Ccm-2K-1.使用由斩波器调制的黑体辐射,测得单元器件在8.5～2217 Hz的电压响应与噪声,计算出器件的探测率为3.4×107～1.7×108 cmHz1/2W-1.
採用絲網印刷法在氧化鋁基片上製備瞭大麵積多孔PbZr0.3Ti0.7O3熱釋電厚膜與單元紅外探測器.通過摻入Li2CO3與Bi2O3作為助燒劑,實現瞭厚膜在850℃下的低溫燒結.通過保持閤適的孔隙率,將厚膜的相對介電常數降低至原值的1/5以提高材料優值與探測率.厚膜在1 kHz、25℃下的相對介電常數與損耗角正切分彆為94與0.017.測試瞭厚膜相對介電常數與損耗隨溫度的變化規律,測得其居裏溫度為425℃.通過動態法測試得到厚膜的熱釋電繫數為0.9×10-8 Ccm-2K-1.使用由斬波器調製的黑體輻射,測得單元器件在8.5～2217 Hz的電壓響應與譟聲,計算齣器件的探測率為3.4×107～1.7×108 cmHz1/2W-1.
채용사망인쇄법재양화려기편상제비료대면적다공PbZr0.3Ti0.7O3열석전후막여단원홍외탐측기.통과참입Li2CO3여Bi2O3작위조소제,실현료후막재850℃하적저온소결.통과보지합괄적공극솔,장후막적상대개전상수강저지원치적1/5이제고재료우치여탐측솔.후막재1 kHz、25℃하적상대개전상수여손모각정절분별위94여0.017.측시료후막상대개전상수여손모수온도적변화규률,측득기거리온도위425℃.통과동태법측시득도후막적열석전계수위0.9×10-8 Ccm-2K-1.사용유참파기조제적흑체복사,측득단원기건재8.5～2217 Hz적전압향응여조성,계산출기건적탐측솔위3.4×107～1.7×108 cmHz1/2W-1.
