材料导报
材料導報
재료도보
MATERIALS REVIEW
2010年
22期
87-91
,共5页
蒋攀%黄佳木%郝晓培%董思勤
蔣攀%黃佳木%郝曉培%董思勤
장반%황가목%학효배%동사근
磁控溅射%TiNx/Ag/TiNx低辐射%耐腐蚀性能%透过率
磁控濺射%TiNx/Ag/TiNx低輻射%耐腐蝕性能%透過率
자공천사%TiNx/Ag/TiNx저복사%내부식성능%투과솔
采用射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积了TiNx/Ag/TiNx低辐射膜,研究了制备工艺参数对低辐射膜光学性能的影响以及低辐射膜的耐腐蚀性能.结果表明,TiNx薄膜可对膜系起到很好的保护作用,当膜系的TiNx保护层厚度为32nm、内层TiNx膜厚为16nm(氮气流量为55sccm)、Ag层厚度为16nm时,制备的低辐射膜系具有优良的透过率、低辐射性能和耐腐蚀性能.
採用射頻磁控濺射法在玻璃基片上沉積瞭TiNx/Ag/TiNx低輻射膜,研究瞭製備工藝參數對低輻射膜光學性能的影響以及低輻射膜的耐腐蝕性能.結果錶明,TiNx薄膜可對膜繫起到很好的保護作用,噹膜繫的TiNx保護層厚度為32nm、內層TiNx膜厚為16nm(氮氣流量為55sccm)、Ag層厚度為16nm時,製備的低輻射膜繫具有優良的透過率、低輻射性能和耐腐蝕性能.
채용사빈자공천사법재파리기편상침적료TiNx/Ag/TiNx저복사막,연구료제비공예삼수대저복사막광학성능적영향이급저복사막적내부식성능.결과표명,TiNx박막가대막계기도흔호적보호작용,당막계적TiNx보호층후도위32nm、내층TiNx막후위16nm(담기류량위55sccm)、Ag층후도위16nm시,제비적저복사막계구유우량적투과솔、저복사성능화내부식성능.
