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전자원기건자신
ECDN
2010年
3期
43-44
,共2页
蓝镇立%程文进%刘咸成%贾京英%龚杰洪
藍鎮立%程文進%劉鹹成%賈京英%龔傑洪
람진립%정문진%류함성%가경영%공걸홍
射频溅射%SiO%SEM%沉积速率
射頻濺射%SiO%SEM%沉積速率
사빈천사%SiO%SEM%침적속솔
利用自制的磁控溅射沉积设备,针对影响SiO2薄膜沉积速率的氩气流量,氧气分压两个关键参数进行工艺研究,并通过扫描电子显微镜(SEM)对沉积完成的Si不O2薄膜表面、剖面结构质量进行表征,结果表明,射频溅射沉积的SiO2薄膜均匀、致密,具有良好的结构性能.
利用自製的磁控濺射沉積設備,針對影響SiO2薄膜沉積速率的氬氣流量,氧氣分壓兩箇關鍵參數進行工藝研究,併通過掃描電子顯微鏡(SEM)對沉積完成的Si不O2薄膜錶麵、剖麵結構質量進行錶徵,結果錶明,射頻濺射沉積的SiO2薄膜均勻、緻密,具有良好的結構性能.
이용자제적자공천사침적설비,침대영향SiO2박막침적속솔적아기류량,양기분압량개관건삼수진행공예연구,병통과소묘전자현미경(SEM)대침적완성적Si불O2박막표면、부면결구질량진행표정,결과표명,사빈천사침적적SiO2박막균균、치밀,구유량호적결구성능.
