化学学报
化學學報
화학학보
ACTA CHIMICA SINICA
2007年
22期
2527-2532
,共6页
常彦龙%苏旭%时雪钊%王春明
常彥龍%囌旭%時雪釗%王春明
상언룡%소욱%시설쇠%왕춘명
多孔硅%贵金属%浸入沉积
多孔硅%貴金屬%浸入沉積
다공규%귀금속%침입침적
将多孔硅浸入含贵金属盐的HF溶液20s,制备了Ag,Au,Pd和Pt的沉积层.AFM形貌显示,这4种贵金属都能在多孔硅上直接沉积,但Pt的沉积量比其他3种少.SEM图及能谱(Energy dispersive X-ray spectrometer,EDS)分析显示,沉积层优先生长在孔边上,孔边上的沉积量约是孔底的4.6倍.电化学方法分析显示,Pd和Pt,Ag和Au的沉积层分别具有类似的开路电位和交流阻抗特性,其中Pd层的溶出电流比其他3种大1个数量级,而阻抗比其他小1个数量级,说明Pd层与硅基底的结合程度好,结合界面导电性好.
將多孔硅浸入含貴金屬鹽的HF溶液20s,製備瞭Ag,Au,Pd和Pt的沉積層.AFM形貌顯示,這4種貴金屬都能在多孔硅上直接沉積,但Pt的沉積量比其他3種少.SEM圖及能譜(Energy dispersive X-ray spectrometer,EDS)分析顯示,沉積層優先生長在孔邊上,孔邊上的沉積量約是孔底的4.6倍.電化學方法分析顯示,Pd和Pt,Ag和Au的沉積層分彆具有類似的開路電位和交流阻抗特性,其中Pd層的溶齣電流比其他3種大1箇數量級,而阻抗比其他小1箇數量級,說明Pd層與硅基底的結閤程度好,結閤界麵導電性好.
장다공규침입함귀금속염적HF용액20s,제비료Ag,Au,Pd화Pt적침적층.AFM형모현시,저4충귀금속도능재다공규상직접침적,단Pt적침적량비기타3충소.SEM도급능보(Energy dispersive X-ray spectrometer,EDS)분석현시,침적층우선생장재공변상,공변상적침적량약시공저적4.6배.전화학방법분석현시,Pd화Pt,Ag화Au적침적층분별구유유사적개로전위화교류조항특성,기중Pd층적용출전류비기타3충대1개수량급,이조항비기타소1개수량급,설명Pd층여규기저적결합정도호,결합계면도전성호.
