发光学报
髮光學報
발광학보
CHINESE JOURNAL OF LUMINESCENCE
2007年
5期
730-735
,共6页
徐小丽%马书懿%陈彦%魏晋军%张国恒%孙小菁
徐小麗%馬書懿%陳彥%魏晉軍%張國恆%孫小菁
서소려%마서의%진언%위진군%장국항%손소정
ZnO薄膜%X射线衍射%光学特性%量子限域
ZnO薄膜%X射線衍射%光學特性%量子限域
ZnO박막%X사선연사%광학특성%양자한역
采用射频反应磁控溅射法在玻璃衬底上成功制备出具有c轴高择优取向的ZnO薄膜,利用X射线衍射及紫外-可见吸收和透射光谱研究了氧分压变化对ZnO薄膜的微观结构及光吸收特性的影响.结果表明,当工作气压恒定时,用射频反应磁控溅射制备的ZnO薄膜的生长行为主要取决于成膜空间中氧的密度,合适的氧分压能够提高ZnO薄膜的结晶质量;薄膜在可见光区的平均透过率达到90%以上,且随着氧分压的增大,薄膜的光学带隙发生了一定程度的变化.采用量子限域模型对薄膜的光学带隙作了相应的理论计算,计算结果与对样品吸收谱所作的拟合结果符合较好,二者的变化趋势完全一致,表明ZnO纳米晶粒较小时,薄膜光学带隙的变化与量子限域效应有很大关系.
採用射頻反應磁控濺射法在玻璃襯底上成功製備齣具有c軸高擇優取嚮的ZnO薄膜,利用X射線衍射及紫外-可見吸收和透射光譜研究瞭氧分壓變化對ZnO薄膜的微觀結構及光吸收特性的影響.結果錶明,噹工作氣壓恆定時,用射頻反應磁控濺射製備的ZnO薄膜的生長行為主要取決于成膜空間中氧的密度,閤適的氧分壓能夠提高ZnO薄膜的結晶質量;薄膜在可見光區的平均透過率達到90%以上,且隨著氧分壓的增大,薄膜的光學帶隙髮生瞭一定程度的變化.採用量子限域模型對薄膜的光學帶隙作瞭相應的理論計算,計算結果與對樣品吸收譜所作的擬閤結果符閤較好,二者的變化趨勢完全一緻,錶明ZnO納米晶粒較小時,薄膜光學帶隙的變化與量子限域效應有很大關繫.
채용사빈반응자공천사법재파리츤저상성공제비출구유c축고택우취향적ZnO박막,이용X사선연사급자외-가견흡수화투사광보연구료양분압변화대ZnO박막적미관결구급광흡수특성적영향.결과표명,당공작기압항정시,용사빈반응자공천사제비적ZnO박막적생장행위주요취결우성막공간중양적밀도,합괄적양분압능구제고ZnO박막적결정질량;박막재가견광구적평균투과솔체도90%이상,차수착양분압적증대,박막적광학대극발생료일정정도적변화.채용양자한역모형대박막적광학대극작료상응적이론계산,계산결과여대양품흡수보소작적의합결과부합교호,이자적변화추세완전일치,표명ZnO납미정립교소시,박막광학대극적변화여양자한역효응유흔대관계.
