北京师范大学学报(自然科学版)
北京師範大學學報(自然科學版)
북경사범대학학보(자연과학판)
JOURNAL OF BEIJING NORMAL UNIVERSITY (NATURAL SCIENCE)
2003年
3期
325-329
,共5页
离子注入%快速热退火%工艺模型
離子註入%快速熱退火%工藝模型
리자주입%쾌속열퇴화%공예모형
在考虑B,P,As离子注入单晶硅中的浓度分布模型的基础上,讨论了快速热退火对3种注入离子浓度分布的影响,提出了3种离子在快速热退火后浓度分布的修正模型.由修正后的模型得到的多次离子注入模拟结果与实验结果符合很好.
在攷慮B,P,As離子註入單晶硅中的濃度分佈模型的基礎上,討論瞭快速熱退火對3種註入離子濃度分佈的影響,提齣瞭3種離子在快速熱退火後濃度分佈的脩正模型.由脩正後的模型得到的多次離子註入模擬結果與實驗結果符閤很好.
재고필B,P,As리자주입단정규중적농도분포모형적기출상,토론료쾌속열퇴화대3충주입리자농도분포적영향,제출료3충리자재쾌속열퇴화후농도분포적수정모형.유수정후적모형득도적다차리자주입모의결과여실험결과부합흔호.