航天工艺
航天工藝
항천공예
HANGTIAN GONGYI
2001年
4期
10-14
,共5页
厚膜%微带%印刷%光刻
厚膜%微帶%印刷%光刻
후막%미대%인쇄%광각
根据厚膜工艺的特点和微波电路的要求,采用了厚膜工艺和薄膜工艺相结合的方法,论述了制作厚膜微带电路的工艺技术途径,并对其膜层的致密性作了进一步的研究,研制的样品在11GHz下进行微波性能测试,表现出良好的特性.
根據厚膜工藝的特點和微波電路的要求,採用瞭厚膜工藝和薄膜工藝相結閤的方法,論述瞭製作厚膜微帶電路的工藝技術途徑,併對其膜層的緻密性作瞭進一步的研究,研製的樣品在11GHz下進行微波性能測試,錶現齣良好的特性.
근거후막공예적특점화미파전로적요구,채용료후막공예화박막공예상결합적방법,논술료제작후막미대전로적공예기술도경,병대기막층적치밀성작료진일보적연구,연제적양품재11GHz하진행미파성능측시,표현출량호적특성.
