半导体学报
半導體學報
반도체학보
CHINESE JOURNAL OF SEMICONDUCTORS
2001年
2期
145-150
,共6页
卢励吾%张砚华%K.K.Mak%Z.H.Ma%J.WANG%I.K.Sou%Weikun Ge
盧勵吾%張硯華%K.K.Mak%Z.H.Ma%J.WANG%I.K.Sou%Weikun Ge
로려오%장연화%K.K.Mak%Z.H.Ma%J.WANG%I.K.Sou%Weikun Ge
分子束外延%宽禁带Ⅱ-Ⅵ族半导体%类DX中心
分子束外延%寬禁帶Ⅱ-Ⅵ族半導體%類DX中心
분자속외연%관금대Ⅱ-Ⅵ족반도체%류DX중심
应用光致发光(PL)、电容-电压(C-V)、深能级瞬态谱(DLTS)和光电导(PC)技术系统研究Al掺杂ZnS1-xTex中与Al有关的类DX中心.实验结果表明,ZnS1-xTex中存在与Ⅲ-Ⅴ族半导体DX中心相类似的性质.获得与Al有关的类DX中心光离化能Ei(~1.0eV和2.0eV)和发射势垒Ee(0.21eV和0.39eV),这表明ZnS1-xTex大晶格弛豫的出现是由类DX中心引起.
應用光緻髮光(PL)、電容-電壓(C-V)、深能級瞬態譜(DLTS)和光電導(PC)技術繫統研究Al摻雜ZnS1-xTex中與Al有關的類DX中心.實驗結果錶明,ZnS1-xTex中存在與Ⅲ-Ⅴ族半導體DX中心相類似的性質.穫得與Al有關的類DX中心光離化能Ei(~1.0eV和2.0eV)和髮射勢壘Ee(0.21eV和0.39eV),這錶明ZnS1-xTex大晶格弛豫的齣現是由類DX中心引起.
응용광치발광(PL)、전용-전압(C-V)、심능급순태보(DLTS)화광전도(PC)기술계통연구Al참잡ZnS1-xTex중여Al유관적류DX중심.실험결과표명,ZnS1-xTex중존재여Ⅲ-Ⅴ족반도체DX중심상유사적성질.획득여Al유관적류DX중심광리화능Ei(~1.0eV화2.0eV)화발사세루Ee(0.21eV화0.39eV),저표명ZnS1-xTex대정격이예적출현시유류DX중심인기.
Al-related DX-like centers were observed in n-type Al-dopedZnS1-xTex epilayers grown by molecular beam epitaxy on GaAs substrates.The photoluminescence,capacitance-voltage,deep level transient spectroscopy,and photoconductivity spectroscopy revealed that the behavior of Al donors in ZnS1-xTex was similar to the so-called DX centers in AlxGa1-xAs.The optical ionization energies (Ei) and emission barrier (Ee) for the observed two Al-related DX-like centers were determined as Ei~1.0eV and ~2.0eV and Ee-0.21eV and 0.39eV,respectively.It was also shown that the formation of Al-related DX-like centers resulted in a significantly large lattice relaxation in ZnS1-xTex.