浙江大学学报(工学版)
浙江大學學報(工學版)
절강대학학보(공학판)
JOURNAL OF ZHEJIANG UNIVERSITY (ENGINEERING SCIENCE)
2003年
1期
70-73,111
,共5页
刘立%郦剑%叶必光%沈复初
劉立%酈劍%葉必光%瀋複初
류립%역검%협필광%침복초
化学气相沉积%SiOx膜层%附着性
化學氣相沉積%SiOx膜層%附著性
화학기상침적%SiOx막층%부착성
本研究采用常压化学气相沉积(CVD)的方法在金属铝基底上制备出硅氧化合物陶瓷膜层.介绍了陶瓷膜层的制备工艺及设备.通过SEM、TEM观察了该膜层的形貌,并用XPS测定了膜层的成分,用TEM分析了陶瓷膜层的结构特征.通过拉伸实验、划痕实验及弯曲实验考察了陶瓷膜层与铝基底的结合性能,结果表明,膜层与基底的结合非常好.
本研究採用常壓化學氣相沉積(CVD)的方法在金屬鋁基底上製備齣硅氧化閤物陶瓷膜層.介紹瞭陶瓷膜層的製備工藝及設備.通過SEM、TEM觀察瞭該膜層的形貌,併用XPS測定瞭膜層的成分,用TEM分析瞭陶瓷膜層的結構特徵.通過拉伸實驗、劃痕實驗及彎麯實驗攷察瞭陶瓷膜層與鋁基底的結閤性能,結果錶明,膜層與基底的結閤非常好.
본연구채용상압화학기상침적(CVD)적방법재금속려기저상제비출규양화합물도자막층.개소료도자막층적제비공예급설비.통과SEM、TEM관찰료해막층적형모,병용XPS측정료막층적성분,용TEM분석료도자막층적결구특정.통과랍신실험、화흔실험급만곡실험고찰료도자막층여려기저적결합성능,결과표명,막층여기저적결합비상호.
