CAJ | 학술논문

在含不同缓蚀剂的 0.5 mol/L H2SO4的电解质溶液中, 用光电化学方法研究了氧化铁钝化膜的电子传递过程 ; 缓蚀剂的加入在金属表面形成的沉积膜是非光电化学活性的, 基本上对光电流的瞬态性质不造成影响 ; 在硫酸溶液中测得两个明显的光电流峰, 其禁带宽度值 =3.7 eV(对应 300 nm处的弱峰 ), =1.95 eV(380到 500 nm范围的强峰 ), 加入不同缓蚀剂后测得值略有减小 ; 测定电位阶跃下发生的电流瞬态引起电荷量的改变, 表明在恒定电位下延长钝化时间会减少膜中羟基和水的含量, 而缓蚀剂的加入减少了膜中 OH-和 H2O的含量, 说明缓蚀剂沉积膜与钝化膜之间存在着化学作用, 造成了钝化膜表面附近的化学组成发生变化 .
재함불동완식제적 0.5 mol/L H2SO4적전해질용액중, 용광전화학방법연구료양화철둔화막적전자전체과정 ; 완식제적가입재금속표면형성적침적막시비광전화학활성적, 기본상대광전류적순태성질불조성영향 ; 재류산용액중측득량개명현적광전류봉, 기금대관도치 =3.7 eV(대응 300 nm처적약봉 ), =1.95 eV(380도 500 nm범위적강봉 ), 가입불동완식제후측득치략유감소 ; 측정전위계약하발생적전류순태인기전하량적개변, 표명재항정전위하연장둔화시간회감소막중간기화수적함량, 이완식제적가입감소료막중 OH-화 H2O적함량, 설명완식제침적막여둔화막지간존재착화학작용, 조성료둔화막표면부근적화학조성발생변화 .