CAJ | 학술논문

研究了化学气相沉积法(CVD)制备得到的掺硼金刚石膜电极的物理性质和电化学性能.用扫描电子显微镜(SEM)法表征了金刚石膜的表面微观结构,采用循环伏安法和交流阻抗法研究了电极的电化学性质.结果表明,金刚石薄膜表面形态为复晶结构,颗粒大小均匀,掺硼后使电极具有良好的导电性能.金刚石膜电极具有很宽的电势窗口,在酸性、中性和碱性3种介质中分别为4.3V、4.0V和3.0V.同时,金刚石膜电极的背景电流非常低,为-9×10-6～5×10-7A.在铁氰化钾电解液中,金刚石膜电极表面在反应过程中始终保持良好的活性,在表面进行的电化学反应具有良好的准可逆性,其电极动力学主要是受扩散过程所控制.金刚石膜电极对有机污染物的催化氧化作用具有选择性.与铂电极和石墨电极相比,金刚石膜电极对苯酚、硝基苯等芳香化合物的催化氧化强烈,氧化过程较为简单、彻底.这些性质表明金刚石膜电极是一种非常适用于环保处理的新型电极.
연구료화학기상침적법(CVD)제비득도적참붕금강석막전겁적물이성질화전화학성능.용소묘전자현미경(SEM)법표정료금강석막적표면미관결구,채용순배복안법화교류조항법연구료전겁적전화학성질.결과표명,금강석박막표면형태위복정결구,과립대소균균,참붕후사전겁구유량호적도전성능.금강석막전겁구유흔관적전세창구,재산성、중성화감성3충개질중분별위4.3V、4.0V화3.0V.동시,금강석막전겁적배경전류비상저,위-9×10-6～5×10-7A.재철청화갑전해액중,금강석막전겁표면재반응과정중시종보지량호적활성,재표면진행적전화학반응구유량호적준가역성,기전겁동역학주요시수확산과정소공제.금강석막전겁대유궤오염물적최화양화작용구유선택성.여박전겁화석묵전겁상비,금강석막전겁대분분、초기분등방향화합물적최화양화강렬,양화과정교위간단、철저.저사성질표명금강석막전겁시일충비상괄용우배보처리적신형전겁.