无机材料学报
無機材料學報
무궤재료학보
JOURNAL OF INORGANIC MATERIALS
2006年
1期
193-198
,共6页
李驰麟%傅正文%舒兴胜%任兆杏
李馳麟%傅正文%舒興勝%任兆杏
리치린%부정문%서흥성%임조행
锂磷氧氮薄膜%溅射沉积%电子回旋共振%锂离子传导率
鋰燐氧氮薄膜%濺射沉積%電子迴鏇共振%鋰離子傳導率
리린양담박막%천사침적%전자회선공진%리리자전도솔
用电子回旋共振(ECR)等离子体辅助射频溅射沉积法制备快锂离子传导的锂磷氧氮(LiPON)薄膜.X射线光电子能谱、扫描电子显微镜、紫外可见吸收光谱等手段表征了在不同ECR功率辅助下沉积的薄膜.结果显示,ECR等离子体对磁控溅射沉积薄膜的生长有明显的影响,能够提高N的插入量,改变薄膜的组成与结构.但是过高的ECR功率反而易破坏薄膜的结构,不利于N的插入.最佳的实验条件是在ECR 200W辅助下沉积的LiPON薄膜,它的电导率约为8×10-6S/cm.讨论了ECR对沉积LiPON薄膜的N插入机理.
用電子迴鏇共振(ECR)等離子體輔助射頻濺射沉積法製備快鋰離子傳導的鋰燐氧氮(LiPON)薄膜.X射線光電子能譜、掃描電子顯微鏡、紫外可見吸收光譜等手段錶徵瞭在不同ECR功率輔助下沉積的薄膜.結果顯示,ECR等離子體對磁控濺射沉積薄膜的生長有明顯的影響,能夠提高N的插入量,改變薄膜的組成與結構.但是過高的ECR功率反而易破壞薄膜的結構,不利于N的插入.最佳的實驗條件是在ECR 200W輔助下沉積的LiPON薄膜,它的電導率約為8×10-6S/cm.討論瞭ECR對沉積LiPON薄膜的N插入機理.
용전자회선공진(ECR)등리자체보조사빈천사침적법제비쾌리리자전도적리린양담(LiPON)박막.X사선광전자능보、소묘전자현미경、자외가견흡수광보등수단표정료재불동ECR공솔보조하침적적박막.결과현시,ECR등리자체대자공천사침적박막적생장유명현적영향,능구제고N적삽입량,개변박막적조성여결구.단시과고적ECR공솔반이역파배박막적결구,불리우N적삽입.최가적실험조건시재ECR 200W보조하침적적LiPON박막,타적전도솔약위8×10-6S/cm.토론료ECR대침적LiPON박막적N삽입궤리.
