光学仪器
光學儀器
광학의기
OPTICAL INSTRUMENTS
2008年
5期
9-13
,共5页
阎传文%白剑%侯西云%杨国光
閻傳文%白劍%侯西雲%楊國光
염전문%백검%후서운%양국광
自适应光学%微反射镜%微光机电系统%微光学
自適應光學%微反射鏡%微光機電繫統%微光學
자괄응광학%미반사경%미광궤전계통%미광학
为了改善微反射镜存在的驱动电压高、驱动力小的缺点,基于双金属效应,制得可调焦微光学自适应阵列.以硅为基底,先后经过热氧化、光刻显影、HF酸刻蚀、KOH湿法刻蚀,溅射铝膜等微加工工艺,制得的4×4阵列,基底厚50/μm,硅表面铝膜厚100nm.利用激光数字波面干涉仪对可调焦微反射镜的动态性能进行了测试.实验表明,在0～11V电压范围内,可产生最大7.91μm的连续变形.
為瞭改善微反射鏡存在的驅動電壓高、驅動力小的缺點,基于雙金屬效應,製得可調焦微光學自適應陣列.以硅為基底,先後經過熱氧化、光刻顯影、HF痠刻蝕、KOH濕法刻蝕,濺射鋁膜等微加工工藝,製得的4×4陣列,基底厚50/μm,硅錶麵鋁膜厚100nm.利用激光數字波麵榦涉儀對可調焦微反射鏡的動態性能進行瞭測試.實驗錶明,在0～11V電壓範圍內,可產生最大7.91μm的連續變形.
위료개선미반사경존재적구동전압고、구동력소적결점,기우쌍금속효응,제득가조초미광학자괄응진렬.이규위기저,선후경과열양화、광각현영、HF산각식、KOH습법각식,천사려막등미가공공예,제득적4×4진렬,기저후50/μm,규표면려막후100nm.이용격광수자파면간섭의대가조초미반사경적동태성능진행료측시.실험표명,재0～11V전압범위내,가산생최대7.91μm적련속변형.
