发光学报
髮光學報
발광학보
CHINESE JOURNAL OF LUMINESCENCE
2008年
2期
405-408
,共4页
范鲜红%陈波%尼启良%王晓光
範鮮紅%陳波%尼啟良%王曉光
범선홍%진파%니계량%왕효광
Mo/Si多层膜%反射率%极紫外波段
Mo/Si多層膜%反射率%極紫外波段
Mo/Si다층막%반사솔%겁자외파단
用由铜靶激光等离子体光源等组成的反射率计对自行设计的周期厚度为7.14 nm 的120层Mo/Si多层膜进行极紫外(EUV)波段反射率测量.由于多层膜层数增加所引起的吸收、膜层界面之间的扩散以及镀膜过程中的膜厚控制误差或表面被氧化(污染)等原因,正入射Mo/Si多层膜在13.9 nm处的反射率低于理论计算值73.2%, 最后用原子力显微镜(AFM)测量其表面粗糙度为σ＝0.401 nm.
用由銅靶激光等離子體光源等組成的反射率計對自行設計的週期厚度為7.14 nm 的120層Mo/Si多層膜進行極紫外(EUV)波段反射率測量.由于多層膜層數增加所引起的吸收、膜層界麵之間的擴散以及鍍膜過程中的膜厚控製誤差或錶麵被氧化(汙染)等原因,正入射Mo/Si多層膜在13.9 nm處的反射率低于理論計算值73.2%, 最後用原子力顯微鏡(AFM)測量其錶麵粗糙度為σ＝0.401 nm.
용유동파격광등리자체광원등조성적반사솔계대자행설계적주기후도위7.14 nm 적120층Mo/Si다층막진행겁자외(EUV)파단반사솔측량.유우다층막층수증가소인기적흡수、막층계면지간적확산이급도막과정중적막후공제오차혹표면피양화(오염)등원인,정입사Mo/Si다층막재13.9 nm처적반사솔저우이론계산치73.2%, 최후용원자력현미경(AFM)측량기표면조조도위σ＝0.401 nm.
