机电产品开发与创新
機電產品開髮與創新
궤전산품개발여창신
DEVELOPMENT & INNOVATION OF MACHINERY & ELECTRICAL PRODUCTS
2009年
6期
156-157,145
,共3页
郭荣礼%胡小英%胡加兴%刘宝元
郭榮禮%鬍小英%鬍加興%劉寶元
곽영례%호소영%호가흥%류보원
微位移%光学放大%线阵CCD%高斯滤波
微位移%光學放大%線陣CCD%高斯濾波
미위이%광학방대%선진CCD%고사려파
提出了一种新的微位移测量的方法,该方法采用多次反射光学放大法时微小住移进行放大,用线阵CCD实现对物体位移前后光斑位置的采集.通过计算机将数据处理即可得到微小位移量.理论分析表明.该方案的测量精度可以达到2.8nm.
提齣瞭一種新的微位移測量的方法,該方法採用多次反射光學放大法時微小住移進行放大,用線陣CCD實現對物體位移前後光斑位置的採集.通過計算機將數據處理即可得到微小位移量.理論分析錶明.該方案的測量精度可以達到2.8nm.
제출료일충신적미위이측량적방법,해방법채용다차반사광학방대법시미소주이진행방대,용선진CCD실현대물체위이전후광반위치적채집.통과계산궤장수거처리즉가득도미소위이량.이론분석표명.해방안적측량정도가이체도2.8nm.
