稀有金属材料与工程
稀有金屬材料與工程
희유금속재료여공정
RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERNG
2012年
1期
120-123
,共4页
陈贵清%张如炳%章德铭%邹豪
陳貴清%張如炳%章德銘%鄒豪
진귀청%장여병%장덕명%추호
TiAl/NiCoCrAl%微层板%EB-PVD%氧化性能
TiAl/NiCoCrAl%微層闆%EB-PVD%氧化性能
TiAl/NiCoCrAl%미층판%EB-PVD%양화성능
采用电子束物理气相沉积(EB-PVD)技术制备了TiAl/NiCoCrAl微层板复合材料,并对其在850℃空气条件下的抗氧化性能进行了研究,利用XRD和SEM对试样进行相组成和微观结构进行分析.结果表明:TiAl/NiCoCrAl微层板具有较好的抗氧化性能,其恒温氧化动力学曲线均近似符合抛物线规律.而TiAl/NiCoCrAl微层板的高温氧化机制为:表层的Al首先氧化生成多孔结构的Al2O3单层膜;随后内部TiAl层中的Ti元素穿越NiCoCrAl层到达表面生成(TiO2+Al2O3)的氧化层;最后NiCoCrAl层中的Ni和Cr会形成以Cr2O3和NiCr2O4相为主的致密的外层氧化膜,这是其抗氧化性能显著提高的根本原因.
採用電子束物理氣相沉積(EB-PVD)技術製備瞭TiAl/NiCoCrAl微層闆複閤材料,併對其在850℃空氣條件下的抗氧化性能進行瞭研究,利用XRD和SEM對試樣進行相組成和微觀結構進行分析.結果錶明:TiAl/NiCoCrAl微層闆具有較好的抗氧化性能,其恆溫氧化動力學麯線均近似符閤拋物線規律.而TiAl/NiCoCrAl微層闆的高溫氧化機製為:錶層的Al首先氧化生成多孔結構的Al2O3單層膜;隨後內部TiAl層中的Ti元素穿越NiCoCrAl層到達錶麵生成(TiO2+Al2O3)的氧化層;最後NiCoCrAl層中的Ni和Cr會形成以Cr2O3和NiCr2O4相為主的緻密的外層氧化膜,這是其抗氧化性能顯著提高的根本原因.
채용전자속물리기상침적(EB-PVD)기술제비료TiAl/NiCoCrAl미층판복합재료,병대기재850℃공기조건하적항양화성능진행료연구,이용XRD화SEM대시양진행상조성화미관결구진행분석.결과표명:TiAl/NiCoCrAl미층판구유교호적항양화성능,기항온양화동역학곡선균근사부합포물선규률.이TiAl/NiCoCrAl미층판적고온양화궤제위:표층적Al수선양화생성다공결구적Al2O3단층막;수후내부TiAl층중적Ti원소천월NiCoCrAl층도체표면생성(TiO2+Al2O3)적양화층;최후NiCoCrAl층중적Ni화Cr회형성이Cr2O3화NiCr2O4상위주적치밀적외층양화막,저시기항양화성능현저제고적근본원인.
