分析科学学报
分析科學學報
분석과학학보
JOURNAL OF ANALYTICAL SCIENCE
2008年
2期
218-220
,共3页
修荣%张文雄%赵星%蔡滨雪
脩榮%張文雄%趙星%蔡濱雪
수영%장문웅%조성%채빈설
分子印迹聚合物%盐酸雷尼替丁%底物选择性
分子印跡聚閤物%鹽痠雷尼替丁%底物選擇性
분자인적취합물%염산뢰니체정%저물선택성
采用分子印迹技术合成了对药物雷尼替丁有高度选择性的模板聚合物.通过Scatchard方程和紫外光谱分析研究了模板聚合物的结合特性.结果表明,其结合位点的解离常数为Kd=2.679×10-3mol/L.底物的选择性结合实验表明,其模板聚合物对盐酸雷尼替丁有较大的吸附性和高度的选择性及识别能力.
採用分子印跡技術閤成瞭對藥物雷尼替丁有高度選擇性的模闆聚閤物.通過Scatchard方程和紫外光譜分析研究瞭模闆聚閤物的結閤特性.結果錶明,其結閤位點的解離常數為Kd=2.679×10-3mol/L.底物的選擇性結閤實驗錶明,其模闆聚閤物對鹽痠雷尼替丁有較大的吸附性和高度的選擇性及識彆能力.
채용분자인적기술합성료대약물뢰니체정유고도선택성적모판취합물.통과Scatchard방정화자외광보분석연구료모판취합물적결합특성.결과표명,기결합위점적해리상수위Kd=2.679×10-3mol/L.저물적선택성결합실험표명,기모판취합물대염산뢰니체정유교대적흡부성화고도적선택성급식별능력.
