西安工程大学学报
西安工程大學學報
서안공정대학학보
JOURNAL OF XI'AN POLYTECHNIC UNIVERSITY
2009年
4期
150-153
,共4页
Ni-Al薄膜%磁控溅射%粗糙度%电阻率
Ni-Al薄膜%磁控濺射%粗糙度%電阻率
Ni-Al박막%자공천사%조조도%전조솔
研究了在纳米厚度范围内,Ni-Al薄膜的电阻率与表面粗糙度的关系. 利用直流磁控溅射方法,使用高纯度(99.99%)的Ni 、Al靶, 通入Ar气制备了Ni-Al薄膜,薄膜的厚度为15nm～140nm. 在室温下通过直线四探针和原子力显微镜测量了不同厚度Ni-Al薄膜的电阻率和表面粗糙度,结果表明电阻率变化和表面粗糙度成近似线性关系.
研究瞭在納米厚度範圍內,Ni-Al薄膜的電阻率與錶麵粗糙度的關繫. 利用直流磁控濺射方法,使用高純度(99.99%)的Ni 、Al靶, 通入Ar氣製備瞭Ni-Al薄膜,薄膜的厚度為15nm～140nm. 在室溫下通過直線四探針和原子力顯微鏡測量瞭不同厚度Ni-Al薄膜的電阻率和錶麵粗糙度,結果錶明電阻率變化和錶麵粗糙度成近似線性關繫.
연구료재납미후도범위내,Ni-Al박막적전조솔여표면조조도적관계. 이용직류자공천사방법,사용고순도(99.99%)적Ni 、Al파, 통입Ar기제비료Ni-Al박막,박막적후도위15nm～140nm. 재실온하통과직선사탐침화원자력현미경측량료불동후도Ni-Al박막적전조솔화표면조조도,결과표명전조솔변화화표면조조도성근사선성관계.
