光电工程
光電工程
광전공정
OPTO-ELECTRONIC ENGINEERING
2011年
11期
73-78
,共6页
大口径镀膜机%理论计算模型%膜厚分布%均匀性%薄膜
大口徑鍍膜機%理論計算模型%膜厚分佈%均勻性%薄膜
대구경도막궤%이론계산모형%막후분포%균균성%박막
分别建立了旋转平面与球面夹具配置下的薄膜膜厚均匀性理论计算模型,对3.6 m大口径镀膜机下直径为2.6 m基板的膜厚均匀性进行了研究.为了改善膜厚均匀性,分别采用两个蒸发源和三个蒸发源进行蒸镀.薄膜的膜厚不均匀性通过理论计算模型进行优化计算得到.对于两个蒸发源,分别得到了两旋转夹具配置下的最优几何配置,对应的膜厚不均匀性最小值分别为7.62％和5.58％.对于三个蒸发源,也分别得到了两旋转夹具配置下的最优几何配置,对应的膜厚不均匀性最小值分别为5.79％和3.48％.结果表明:采用三个蒸发源能更好的改善膜厚分布,而且旋转球面夹具配置下得到的膜厚均匀性整体上较好.
分彆建立瞭鏇轉平麵與毬麵夾具配置下的薄膜膜厚均勻性理論計算模型,對3.6 m大口徑鍍膜機下直徑為2.6 m基闆的膜厚均勻性進行瞭研究.為瞭改善膜厚均勻性,分彆採用兩箇蒸髮源和三箇蒸髮源進行蒸鍍.薄膜的膜厚不均勻性通過理論計算模型進行優化計算得到.對于兩箇蒸髮源,分彆得到瞭兩鏇轉夾具配置下的最優幾何配置,對應的膜厚不均勻性最小值分彆為7.62％和5.58％.對于三箇蒸髮源,也分彆得到瞭兩鏇轉夾具配置下的最優幾何配置,對應的膜厚不均勻性最小值分彆為5.79％和3.48％.結果錶明:採用三箇蒸髮源能更好的改善膜厚分佈,而且鏇轉毬麵夾具配置下得到的膜厚均勻性整體上較好.
분별건립료선전평면여구면협구배치하적박막막후균균성이론계산모형,대3.6 m대구경도막궤하직경위2.6 m기판적막후균균성진행료연구.위료개선막후균균성,분별채용량개증발원화삼개증발원진행증도.박막적막후불균균성통과이론계산모형진행우화계산득도.대우량개증발원,분별득도료량선전협구배치하적최우궤하배치,대응적막후불균균성최소치분별위7.62％화5.58％.대우삼개증발원,야분별득도료량선전협구배치하적최우궤하배치,대응적막후불균균성최소치분별위5.79％화3.48％.결과표명:채용삼개증발원능경호적개선막후분포,이차선전구면협구배치하득도적막후균균성정체상교호.
