真空
真空
진공
VACUUM
2010年
6期
23-25
,共3页
真空镀膜%基片%蒸发源%距离
真空鍍膜%基片%蒸髮源%距離
진공도막%기편%증발원%거리
蒸发源是真空镀膜装置中一个非常重要的部件.在多个蒸发源共存的装置中,如何在设计中正确选择蒸发源与蒸发源、蒸发源与基片之间的距离就显得尤为重要,它直接关系到基板涂层均匀性.本篇文章根据蒸发源与基片之间的物理联系入手,分析基片--蒸发源距离对基片涂层均匀性的影响,进而对蒸发源与蒸发源、蒸发源与基片之间距离的确定,提出了自己的一些观点和看法.
蒸髮源是真空鍍膜裝置中一箇非常重要的部件.在多箇蒸髮源共存的裝置中,如何在設計中正確選擇蒸髮源與蒸髮源、蒸髮源與基片之間的距離就顯得尤為重要,它直接關繫到基闆塗層均勻性.本篇文章根據蒸髮源與基片之間的物理聯繫入手,分析基片--蒸髮源距離對基片塗層均勻性的影響,進而對蒸髮源與蒸髮源、蒸髮源與基片之間距離的確定,提齣瞭自己的一些觀點和看法.
증발원시진공도막장치중일개비상중요적부건.재다개증발원공존적장치중,여하재설계중정학선택증발원여증발원、증발원여기편지간적거리취현득우위중요,타직접관계도기판도층균균성.본편문장근거증발원여기편지간적물리련계입수,분석기편--증발원거리대기편도층균균성적영향,진이대증발원여증발원、증발원여기편지간거리적학정,제출료자기적일사관점화간법.
