人工晶体学报
人工晶體學報
인공정체학보
2010年
6期
1359-1366
,共8页
曹亚超%李明伟%喻江涛%王晓丁%朱廷霞
曹亞超%李明偉%喻江濤%王曉丁%硃廷霞
조아초%리명위%유강도%왕효정%주정하
相变界面%微观结构%粗糙度%相变驱动力%AFM
相變界麵%微觀結構%粗糙度%相變驅動力%AFM
상변계면%미관결구%조조도%상변구동력%AFM
ADP晶体{100}面族生长的实时与非实时AFM(Atomic Force Microscopy)研究表明,其相变驱动力为0.01～0.04kT/ωs时,ADP晶体(100)面的平均面粗糙度和均方面粗糙度均不到0.3 nm,小于该晶面间距0.75 nm,微观结构表现为光滑界面,与夫兰克模型、特姆金模型相符,并观测到螺位错生长;在相变驱动力为0.053～0.11kT/ωs时,ADP晶体的(100)面的平均面粗糙度和均方面粗糙度介于1.8～4.2 nm,大于该晶面间距0.75 nm,微观结构粗糙度增加,趋向于粗糙界面,可用特姆金的弥散界面模型解释,界面上观测到多二维核生长.
ADP晶體{100}麵族生長的實時與非實時AFM(Atomic Force Microscopy)研究錶明,其相變驅動力為0.01～0.04kT/ωs時,ADP晶體(100)麵的平均麵粗糙度和均方麵粗糙度均不到0.3 nm,小于該晶麵間距0.75 nm,微觀結構錶現為光滑界麵,與伕蘭剋模型、特姆金模型相符,併觀測到螺位錯生長;在相變驅動力為0.053～0.11kT/ωs時,ADP晶體的(100)麵的平均麵粗糙度和均方麵粗糙度介于1.8～4.2 nm,大于該晶麵間距0.75 nm,微觀結構粗糙度增加,趨嚮于粗糙界麵,可用特姆金的瀰散界麵模型解釋,界麵上觀測到多二維覈生長.
ADP정체{100}면족생장적실시여비실시AFM(Atomic Force Microscopy)연구표명,기상변구동력위0.01～0.04kT/ωs시,ADP정체(100)면적평균면조조도화균방면조조도균불도0.3 nm,소우해정면간거0.75 nm,미관결구표현위광활계면,여부란극모형、특모금모형상부,병관측도라위착생장;재상변구동력위0.053～0.11kT/ωs시,ADP정체적(100)면적평균면조조도화균방면조조도개우1.8～4.2 nm,대우해정면간거0.75 nm,미관결구조조도증가,추향우조조계면,가용특모금적미산계면모형해석,계면상관측도다이유핵생장.
