真空科学与技术学报
真空科學與技術學報
진공과학여기술학보
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
2010年
5期
514-519
,共6页
望咏林%颜悦%伍建华%温培刚%张晓锋
望詠林%顏悅%伍建華%溫培剛%張曉鋒
망영림%안열%오건화%온배강%장효봉
氧化钛薄膜%磁控反应溅射%中频孪生%离子束辅助沉积
氧化鈦薄膜%磁控反應濺射%中頻孿生%離子束輔助沉積
양화태박막%자공반응천사%중빈련생%리자속보조침적
本文利用孪生靶50 kHz中频磁控反应溅射的方法,在多孔阳极层离子束源产生的低温离子束辅助条件下制备了光学性能良好的氧化钛薄膜.利用原子力显微镜、分光光度计、椭圆偏振光谱仪研究了离子束功率以及退火温度对氧化钛薄膜形貌、光学折射率和消光系数、孔隙率等的影响.结果表明:利用中频孪生磁控溅射的方法将沉积工艺控制在反应过渡区,可以有效的抑制钛靶中毒和阳极消失,反应溅射过程稳定;辅助离子束提高了等离子体的电荷密度;氧化钛薄膜堆积密度和光学折射率也有所提高,薄膜表面趋于平坦,孔隙率降低.氧化钛薄膜在高温退火处理时由于出现从非晶到多晶转变以及晶体长大与转变,结构逐渐趋于完整,表面粗糙度不断增加;800℃时完全转化为金红石相,晶粒直径约70nm.
本文利用孿生靶50 kHz中頻磁控反應濺射的方法,在多孔暘極層離子束源產生的低溫離子束輔助條件下製備瞭光學性能良好的氧化鈦薄膜.利用原子力顯微鏡、分光光度計、橢圓偏振光譜儀研究瞭離子束功率以及退火溫度對氧化鈦薄膜形貌、光學摺射率和消光繫數、孔隙率等的影響.結果錶明:利用中頻孿生磁控濺射的方法將沉積工藝控製在反應過渡區,可以有效的抑製鈦靶中毒和暘極消失,反應濺射過程穩定;輔助離子束提高瞭等離子體的電荷密度;氧化鈦薄膜堆積密度和光學摺射率也有所提高,薄膜錶麵趨于平坦,孔隙率降低.氧化鈦薄膜在高溫退火處理時由于齣現從非晶到多晶轉變以及晶體長大與轉變,結構逐漸趨于完整,錶麵粗糙度不斷增加;800℃時完全轉化為金紅石相,晶粒直徑約70nm.
본문이용련생파50 kHz중빈자공반응천사적방법,재다공양겁층리자속원산생적저온리자속보조조건하제비료광학성능량호적양화태박막.이용원자력현미경、분광광도계、타원편진광보의연구료리자속공솔이급퇴화온도대양화태박막형모、광학절사솔화소광계수、공극솔등적영향.결과표명:이용중빈련생자공천사적방법장침적공예공제재반응과도구,가이유효적억제태파중독화양겁소실,반응천사과정은정;보조리자속제고료등리자체적전하밀도;양화태박막퇴적밀도화광학절사솔야유소제고,박막표면추우평탄,공극솔강저.양화태박막재고온퇴화처리시유우출현종비정도다정전변이급정체장대여전변,결구축점추우완정,표면조조도불단증가;800℃시완전전화위금홍석상,정립직경약70nm.