材料导报
材料導報
재료도보
MATERIALS REVIEW
2004年
7期
101-103
,共3页
锗离子注人%SiGe/Si异质结%快速热退火
鍺離子註人%SiGe/Si異質結%快速熱退火
타리자주인%SiGe/Si이질결%쾌속열퇴화
报道了利用高剂量Ge+注入制备SiGe/Si异质结的工作.100keV、5.3×1016/cm2/cm2 Ge+注入(001)SIMOX膜中,峰值Ge+浓度接近20%.样品在不同温度下进行不同时间的快速热退火,X射线衍射分析和背散射沟道谱研究表明:1000°C退火0.5h,退火效果较好;退火时间过短或过长,退火温度过高或过低,都将影响退火效果.
報道瞭利用高劑量Ge+註入製備SiGe/Si異質結的工作.100keV、5.3×1016/cm2/cm2 Ge+註入(001)SIMOX膜中,峰值Ge+濃度接近20%.樣品在不同溫度下進行不同時間的快速熱退火,X射線衍射分析和揹散射溝道譜研究錶明:1000°C退火0.5h,退火效果較好;退火時間過短或過長,退火溫度過高或過低,都將影響退火效果.
보도료이용고제량Ge+주입제비SiGe/Si이질결적공작.100keV、5.3×1016/cm2/cm2 Ge+주입(001)SIMOX막중,봉치Ge+농도접근20%.양품재불동온도하진행불동시간적쾌속열퇴화,X사선연사분석화배산사구도보연구표명:1000°C퇴화0.5h,퇴화효과교호;퇴화시간과단혹과장,퇴화온도과고혹과저,도장영향퇴화효과.