材料热处理学报
材料熱處理學報
재료열처이학보
TRANSACTIONS OF MATERIALS AND HEAT TREATMENT
2002年
4期
39-42
,共4页
刘涛%郦剑%沈复初%王幼文
劉濤%酈劍%瀋複初%王幼文
류도%역검%침복초%왕유문
化学气相沉积(CVD)%SiOx膜层%结合强度
化學氣相沉積(CVD)%SiOx膜層%結閤彊度
화학기상침적(CVD)%SiOx막층%결합강도
采用常压CVD方法在铝合金基底上制备出硅氧化合物陶瓷膜层.使用SEM、TEM及XPS仪分析了膜层形貌、成分和组织结构,通过180°、90°弯曲实验和450 ℃热冲击实验考察了陶瓷膜层与基片的结合性能,证实该技术制备的膜层与基底的结合强度很高.
採用常壓CVD方法在鋁閤金基底上製備齣硅氧化閤物陶瓷膜層.使用SEM、TEM及XPS儀分析瞭膜層形貌、成分和組織結構,通過180°、90°彎麯實驗和450 ℃熱遲擊實驗攷察瞭陶瓷膜層與基片的結閤性能,證實該技術製備的膜層與基底的結閤彊度很高.
채용상압CVD방법재려합금기저상제비출규양화합물도자막층.사용SEM、TEM급XPS의분석료막층형모、성분화조직결구,통과180°、90°만곡실험화450 ℃열충격실험고찰료도자막층여기편적결합성능,증실해기술제비적막층여기저적결합강도흔고.
