稀有金属材料与工程
稀有金屬材料與工程
희유금속재료여공정
RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERNG
2002年
3期
175-178
,共4页
曾鹏%胡社军%谢光荣%黄拿灿%吴起白
曾鵬%鬍社軍%謝光榮%黃拿燦%吳起白
증붕%호사군%사광영%황나찬%오기백
低能离子束%IBAD%真空电弧沉积(VAD)%组织结构%显微硬度
低能離子束%IBAD%真空電弧沉積(VAD)%組織結構%顯微硬度
저능리자속%IBAD%진공전호침적(VAD)%조직결구%현미경도
研究了用能量为3.0keV～4.0 keV,束流为80mA～200mA的低能氮和氩离子束对Ti膜进行轰击的作用以及用低能氮离子束对真空电弧沉积Ti-N膜层辅助沉积作用.结果表明:用低能氮离子束对Ti膜进行轰击可以形成Ti2N相,在(204)晶面出现一定的择优取向,并对Ti膜层有一定的强化作用;在低能氮离子束对真空电弧辅助沉积过程中,膜层表现为较高的显微硬度;随低能离子束能量的增大,真空电弧沉积膜层中Ti2N相增多,在(002)晶面出现择优取向,膜层晶粒有粗化的趋势,但显微硬度却增加,这与Hall-Petch公式不符.
研究瞭用能量為3.0keV～4.0 keV,束流為80mA～200mA的低能氮和氬離子束對Ti膜進行轟擊的作用以及用低能氮離子束對真空電弧沉積Ti-N膜層輔助沉積作用.結果錶明:用低能氮離子束對Ti膜進行轟擊可以形成Ti2N相,在(204)晶麵齣現一定的擇優取嚮,併對Ti膜層有一定的彊化作用;在低能氮離子束對真空電弧輔助沉積過程中,膜層錶現為較高的顯微硬度;隨低能離子束能量的增大,真空電弧沉積膜層中Ti2N相增多,在(002)晶麵齣現擇優取嚮,膜層晶粒有粗化的趨勢,但顯微硬度卻增加,這與Hall-Petch公式不符.
연구료용능량위3.0keV～4.0 keV,속류위80mA～200mA적저능담화아리자속대Ti막진행굉격적작용이급용저능담리자속대진공전호침적Ti-N막층보조침적작용.결과표명:용저능담리자속대Ti막진행굉격가이형성Ti2N상,재(204)정면출현일정적택우취향,병대Ti막층유일정적강화작용;재저능담리자속대진공전호보조침적과정중,막층표현위교고적현미경도;수저능리자속능량적증대,진공전호침적막층중Ti2N상증다,재(002)정면출현택우취향,막층정립유조화적추세,단현미경도각증가,저여Hall-Petch공식불부.
