光电工程
光電工程
광전공정
OPTO-ELECTRONIC ENGINEERING
2003年
5期
69-72
,共4页
徐清兰%伍凡%吴时彬%王家金%雷柏平%兰秀清%张晶
徐清蘭%伍凡%吳時彬%王傢金%雷柏平%蘭秀清%張晶
서청란%오범%오시빈%왕가금%뢰백평%란수청%장정
抛光%磨料%单晶硅%沥青盘
拋光%磨料%單晶硅%瀝青盤
포광%마료%단정규%력청반
用古典的沥青盘抛光技术,通过对超光滑抛光时所使用磨料的选取、沥青抛光盘的软硬和厚度的合理应用、抛光温度的控制等工艺参数的优化,以φ220mm内的单晶硅进行了超光滑表面抛光工艺试验.试验结果,单晶硅表面粗糙度RMS值达0.37nm,平面面形误差PV小于λ/15,且加工工艺技术稳定可靠.
用古典的瀝青盤拋光技術,通過對超光滑拋光時所使用磨料的選取、瀝青拋光盤的軟硬和厚度的閤理應用、拋光溫度的控製等工藝參數的優化,以φ220mm內的單晶硅進行瞭超光滑錶麵拋光工藝試驗.試驗結果,單晶硅錶麵粗糙度RMS值達0.37nm,平麵麵形誤差PV小于λ/15,且加工工藝技術穩定可靠.
용고전적력청반포광기술,통과대초광활포광시소사용마료적선취、력청포광반적연경화후도적합리응용、포광온도적공제등공예삼수적우화,이φ220mm내적단정규진행료초광활표면포광공예시험.시험결과,단정규표면조조도RMS치체0.37nm,평면면형오차PV소우λ/15,차가공공예기술은정가고.
