航天器工程
航天器工程
항천기공정
SPACECRAFT ENGINEERING
2011年
5期
116-124
,共9页
鲁文涛%蒋远大%张志远%吴汉基
魯文濤%蔣遠大%張誌遠%吳漢基
로문도%장원대%장지원%오한기
航天器%脉冲等离子体源%表面充电电位的主动控制%模拟实验%控制效率
航天器%脈遲等離子體源%錶麵充電電位的主動控製%模擬實驗%控製效率
항천기%맥충등리자체원%표면충전전위적주동공제%모의실험%공제효솔
spacecraft%pulse plasma source%active control of surface charging potential%simulation experiment%control efficiency
在空间环境运行的航天器存在表面充电现象,而航天器表面充电引发的静电放电是导致航天器异常及故障的重要原因之一。因此,在航天器设计和应用中,必须对航天器表面电位采取必要的控制和防护措施。文章介绍了用脉冲等离子体源进行航天器表面充电电位主动控制的研究。通过模拟实验和实验数据分析,证实了用脉冲等离子体源能有效地控制航天器表面充电的电位,阐明了脉冲等离子体控制表面电位的原理和控制特点;提出了用控制效率或等效电阻这一参数,解释各种因素对表面电位控制效果的影响。实验证明,对航天器表面电位进行主动控制是一种行之有效的方法。
在空間環境運行的航天器存在錶麵充電現象,而航天器錶麵充電引髮的靜電放電是導緻航天器異常及故障的重要原因之一。因此,在航天器設計和應用中,必鬚對航天器錶麵電位採取必要的控製和防護措施。文章介紹瞭用脈遲等離子體源進行航天器錶麵充電電位主動控製的研究。通過模擬實驗和實驗數據分析,證實瞭用脈遲等離子體源能有效地控製航天器錶麵充電的電位,闡明瞭脈遲等離子體控製錶麵電位的原理和控製特點;提齣瞭用控製效率或等效電阻這一參數,解釋各種因素對錶麵電位控製效果的影響。實驗證明,對航天器錶麵電位進行主動控製是一種行之有效的方法。
재공간배경운행적항천기존재표면충전현상,이항천기표면충전인발적정전방전시도치항천기이상급고장적중요원인지일。인차,재항천기설계화응용중,필수대항천기표면전위채취필요적공제화방호조시。문장개소료용맥충등리자체원진행항천기표면충전전위주동공제적연구。통과모의실험화실험수거분석,증실료용맥충등리자체원능유효지공제항천기표면충전적전위,천명료맥충등리자체공제표면전위적원리화공제특점;제출료용공제효솔혹등효전조저일삼수,해석각충인소대표면전위공제효과적영향。실험증명,대항천기표면전위진행주동공제시일충행지유효적방법。
There is surface charging when a spacecraft operates in the space environment.The electrostatic discharge induced by spacecraft surface charging is an important cause of spacecraft anomalies and failures.Therefore,we must take measures to control the surface potential of the spacecraft when we design and apply spacecraft.This paper presents the investigation of the active control of spacecraft surface charging potential by using a pulsed plasma source.Through simulation experiments and theoretical analysis,the feasibility and feature of using pulsed plasma source to control spacecraft surface potential are demonstrated,its control principle can be elucidated,and the control efficiency η or equivalent resistance R to explain the influence of various factors on surface potential control effect is also provided.It is proved that the active control of spacecraft surface potential is one of effective methods of spacecraft surface potential control.